| 主权项 |
1.一种雷射装置之光轴校正方法,包括下列步骤:a.制备一套管,该套管内部嵌设有一雷射单元,而在该套管之一端更延伸出有一延伸区段;b.以一夹具夹持住该套管之延伸区段,并以该夹具带动整个雷射装置旋转;c.在该雷射单元前端一适当距离处选定一基准点,此一基准点系恰位在夹具之机械中心轴上;d.使该雷射装置发出雷射光束投射到该基准点;e.依据该雷射光束投射到基准点之偏移量,于停止夹具之旋转之后,施加一垂直应力于该套管,使该雷射光束之光轴与该夹具之机械中心轴同轴。2.如申请专利范围第1项所述之雷射装置之光轴校正方法,其中该套管与其延伸区段之间更设有一凹环槽。3.如申请专利范围第1项所述之雷射装置之光轴校正方法,于步骤e之后,更包括以下步骤:以夹具旋转该整个雷射装置,并对该套管之外环进行切削,使其套管之外环之机械中心轴与夹具之机械中心轴同轴。4.如申请专利范围第3项所述之雷射装置之光轴校正方法,其更包括将该延伸区段与套管之间予以截断之步骤,以使两者分离。5.如申请专利范围第4项所述之雷射装置之光轴校正方法,其更包括套设一护管于该套管之步骤。图式简单说明:第一图系显示一习用雷射单元之立体图;第二图系显示一雷射单元与一电路基板以及一套管结合之剖视图;第三图系显示本发明之雷射单元与一电路基板以及一套管结合之剖视图;第四图系显示本发明之雷射单元与一电路基板以及一套管结合之立体外观图;第五图系显示以一夹具夹持该套管之延伸区段,并在该雷射单元前端一适当距离处,选定一基准点;第六图系显示雷射单元所发射出之雷射光束存在偏斜角度误差时,雷射光束会随着整个雷射装置之旋动而在基准点周围产生位移;第七图显示雷射单元所发射出之雷射光束存在偏斜角度误差时之侧视示意图;第八图显示施加一垂直应力于套管本体上,以使雷射光束之光轴之投射光点位置恰重叠于基准点上之示意图;第九图系显示本发明中,对套管后段之外环进行切削后之侧视示意图;第十图系显示套管之延伸区段截断后之侧视示意图;第十一图系显示第十图中之套管后段套设一护管之侧视示意图。 |
