| 主权项 |
1.一种制备有效之工业有机锂双引发剂之方法,其包括两当量选自第二-丁基锂或第三-丁基锂之单有机锂引发剂与1,3-二异丙烯基苯之反应,于温度范围0至50℃下,在选自具有5至8个碳原子之环烷类之非极性烃溶剂中,及视情况于三级胺存在下进行,接着在此反应混合物中添加1,3-丁二烯或异戊二烯单体,其量可形成视分子量(apparent molecular weight)在500至4000范围内之,-二锂聚(共轭二烯)引发剂,及相对于溶剂总体积而言,15至40体积%之一种芳族醚活化剂,视情况与一种具有3至6个碳原子的烷氧基锂化合物混合,其浓度为以已存在之每当量锂计,系0.5至2莫耳当量,于温度范围0至30℃下进行,以形成以该,-二锂聚(共轭二烯)引发剂之溶液。2.根据申请专利范围第1项之方法,其特征在于1,3-二异丙烯基苯与单有机锂引发剂之反应,系在10至30℃之温度范围内。3.根据申请专利范围第1项之方法,其特征在于该芳族醚活化剂系选自甲苯醚、二苯基醚及/或其衍生物,其中至少一个苯环已被一或多个含有1至3个碳原子之烷基或烷氧基取代。4.根据申请专利范围第1项之方法,其特征在于该芳族醚活化剂之量,系在15至25体积%之范围内。5.根据申请专利范围第1项之方法,其特征在于所制成之,-二锂引发剂之视分子量,系在1500至2300之范围内。6.根据申请专利范围第1项之方法,其中安定之,-二锂引发剂系溶解于烃溶剂-芳族醚活化剂媒质中,以形成具所制得,-二锂引发剂所欲浓度之反应产物溶液。7.一种制备对称嵌段共聚物之方法,该对称嵌段共聚物系藉阴离子聚合作用,使用根据申请专利范围第1-5项中任一项而获得之,-二锂引发剂溶液,该共聚物衍生自主要为苯乙烯、主要为选自主要为丁二烯及/或异戊二烯之共轭二烯,及视情况添加之其他选自丙烯酸或甲基丙烯酸之C1-C4烷基酯之极性乙烯基单体,其具有狭窄分子量分布(Mw/Mn≦1.20)及主要为聚(共轭二烯)嵌段之相对较低乙烯基含量(≦18%)之组合。8.根据申请专利范围第7项之方法,其特征在于其系制备结构个别为ABA、ABCBA、CBC、ACBCA或CABAC之线性嵌段共聚物,其中A代表衍生自主要为苯乙烯之嵌段,B代表衍生自主要为丁二烯及/或异戊二烯之嵌段,以及C代表衍生自丙烯酸或甲基丙烯酸之C1-C4烷基酯之嵌段,此方法包括:(1)将主要为丁二烯及/或异戊二烯之单体,添加至溶于前文所指定之烃溶剂-芳族醚混合物中之,-二锂引发剂中,并允许本质上完全之聚合反应发生;然后(2)于引进封端剂及添加醚之后,添加主要为苯乙烯单体或主要为选自丙烯酸或甲基丙烯酸之C1-C4烷基酯之极性乙烯基单体,并允许本质上完全之聚合反应发生;及视情况(3)引进一种试剂,以引进该活聚合物之封端作用,及引进一种醚,并添加主要为极性乙烯基之单体,及允许本质上完全之聚合反应,其中二苯基乙烯及-甲基苯乙烯系作为封端试剂。9.一种对称嵌段共聚物,其可藉根据申请专利范围第7项之方法获得,其特征在于具有下述性质之组合,狭窄分子量分布(Mw/Mn≦1.20),相对较低乙烯基含量之主要聚(共轭二烯)嵌段(≦18%),抗张强度为至少25MPa,永久变形≦20光及最高使用温度为至少80℃。10.根据申请专利范围第9项之对称嵌段共聚物,其特征在于其系为线性五嵌段共聚物,衍生自苯乙烯、丁二烯及甲基丙烯酸第三-丁酯,作为纯嵌段成份。11.根据申请专利范围第9项之对称嵌段共聚物,其特征在于该嵌段C已经完全或部份水解(残留酯含量≦10莫耳%)。 |
