MATERIAL DE REGISTRO SENSIBLE A LA RADIACION PARA LA PRODUCCION DE PLACAS DE IMPRESION PLANOGRAFICA.

摘要

SE PRESENTA UN MATERIAL DE GRABACION SENSIBLE A LA RADIACION, PARA EL TRABAJO EN POSITIVO PARA LA PRODUCCION DE PLACAS DE IMPRESION PLANOGRAFICAS, QUE COMPRENDE UN SOPORTE DE ALUMINIO Y UNA CAPA SENSIBLE A LA RADIACION RECUBIERTA SOBRE EL MISMO, EN DONDE - EL SOPORTE DE ALUMINIO HA SIDO GRANULADO EN ACIDO NITRICO, LUEGO DECAPADO EN ACIDO SULFURICO, ANALIZADO EN ACIDO SULFURICO, Y SUBSECUENTEMENTE HIDROFILIZADO CON UN COMPUESTO QUE COMPRENDE AL MENOS UNA UNIDAD CON UN ACIDO FOSFONICO O UN GRUPO DE FOSFONATO Y - LA CAPA SENSIBLE A LA RADIACION COMPRENDE A) UN ESTER SENSIBLE A LA RADIACION DE ACIDO 1,2-NAFTOQUINONA-2DIAZURO-4- O -5- SULFONICO Y UN POLICONDENSADO QUE TIENE GRUPOS DE HIDROXIDO FENOLICO, EL POLICONDENSADO SE OBTIENE HACIENDO REACCIONAR UN COMPUESTO FENOLICO CON UN ALDEHIDO O UNA QUETONA, B) UN NOVOLAC O UN PRODUCTO DE POLICONDENSACION OBTENIDO HACIENDO REACCIONAR POLIFENOL CON UN ALDEHIDO O UNA QUETONA, COMO UNA RESINA SOLUBLE EN ALCALI, C) UN POLIMERO DE TIPO VINILO QUE COMPRENDE AL MENOS UNA UNIDAD QUE TIENE AL MENOS UN GRUPO DE HIDROXIFENILO LATERAL, D) UN CLATRATO, D) UN COMPUESTO DE BAJO PESO MOLECULAR QUE COMPRENDE AL MENOS UN ATOMO DE HIDROGENO ACIDICO Y F) PARTICULAS DE GEL DE SILICE QUE TIENEN UN DIAMETRO MAXIMO DE 15 {MI}M.