| 发明名称 |
MONOLITHIC CIRCUIT MANUFACTURE AND PHOTORESIST EXPOSURE TECHNIQUE UTILIZED THEREIN |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US3524394(A) |
申请公布日期 |
1970.08.18 |
| 申请号 |
USD3524394 |
申请日期 |
1966.11.16 |
| 申请人 |
INTERN. BUSINESS MACHINES CORP. |
发明人 |
BRIAN SUNNERS |
| 分类号 |
B23Q1/54;G03F7/20;H01L23/29;H01L23/522;(IPC1-7):E01C5/08 |
主分类号 |
B23Q1/54 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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