| 摘要 |
<p>Verfahren zum Reinigen von Schienenrillen von Eisenbahnschienen, während der Fahrt, wobei ein Hochdruck-Fluidstrahl (2) eines flüssigen, gasförmigen, dampfförmigen, kalten oder erhitzten Reinigungsfluids oder eines Gemisches auf die Schmutzlage (12) in der Schienenrille (3) gerichtet ist, dessen von der Auftreffstelle (4) reflektierte Fluidstrahlen (11) das Schmutz-Fluidgemisch von einer Sammeleinrichtung und einer Führungseinrichtung einer Fördereinrichtung zugeführt wird, von der es in eine Schmutzsammeleinrichtung geleitet und das verbrauchte Fluid darin vom Schmutz wenigstens teilweise getrennt wird oder direkt ausgetragen wird, wobei die Rillenreinigungseinheit mit einer Hochdruckdüse (1) versehen ist, aus der ein Reinigungsfluid in einem Hochdruckstrahl nach unten geneigt auf eine Reinigungsoberfläche auftrifft und von einem Abdeckschirm (5) abgedeckt ist, in der eine Austrittsöffnung (11) für das Schmutz-Fluidgemisch angebracht ist und deren Abdeckschirm (5) ein Stück Schiene (17) mit Schienenrille (3) umgibt, an dessen strahlseitigen Stirnwand (8) die Hochdruckdüse (1) angebracht ist, mit der der Hochdruck-Fluidstrahl (2) auf die Auftreffstelle (4) in der Schienenrille (3) gerichtet ist, dessen reflektierte Fluidstrahlen (11) unter einem Winkel zurückgeworfen werden, der steiler oder flacher ist, als der Neigung einer schräg in Fahrtrichtung (19) nach vorne ansteigend angeordneten, unteren Schirmwand (7) entspricht, von der die reflektierten Fluidstrahlen (11) aufgefangen werden und durch die Austrittsöffnung (18) hindurchtreten.</p> |
