| 主权项 |
1.一种可独立控制保持环压力之气囊式浮动研磨 头,包括有: 一外壳,其下方环周设有隔离环,藉由该隔离环将 外壳下方区隔出内区域与外区域; 一主气囊装置,系设于上述外壳下方之内区域,其 包括一具有复数洞孔之浮动底板,该浮动底板上面 设有凸缘,该凸缘之侧边设有凹部,该浮动底板与 上述隔离环之间垂直地设有低劲度弹簧,该隔离环 设有向下垂直延伸之底板定位钩,该底板定位钩下 端设有一厚度小于上述凹部高度之下钩部,并使该 下钩部配合于该凹部内,该浮动底板之下方覆设有 主气囊,并使该主气囊之环周边固定于上述之隔离 环,且该主气囊之侧边形成有内凹腰身部,以提供 更均匀之研磨压力,上述之外壳、隔离环、浮动底 板与主气囊之间共同构成一主气室,另由该主气室 接设有一主气囊管路; 一副气囊装置,系设于上述外壳下方之外区域,其 在外壳内壁面与隔离环之间设有副气囊固定座,该 副气囊固定座固设有一副气囊,该副气囊内结合有 一下结合座,且该下结合座配合有一轴杆,该轴杆 系固设于该副气囊固定座,该下结合座下端接设有 一保持环,另由该副气囊接设有一副气囊管路; 一导管,系接设于上述外壳之上端,该导管下方与 外壳上方之间设有高劲度弹簧; 一气缸,系接设于上述导管之上端,用以控制上述 浮动研磨头做昇降动作。2.依据申请专利范围第1 项所述之可独立控制保持环压力之气囊式浮动研 磨头,其中,该隔离环之内侧面水平延设有一水平 板,并将上述之底板定位钩固设在该水平板。3.依 据申请专利范围第2项所述之可独立控制保持环压 力之气囊式浮动研磨头,其中,该隔离环之水平板 下方设置一具有凹沟之主气囊固定环,乃将该隔离 环固定于该水平板之同时,将该主气囊之环周边配 合于该凹沟内以固定。4.依据申请专利范围第1项 所述之可独立控制保持环压力之气囊式浮动研磨 头,其中,该底板定位钩之上端设有朝向下方之上 抵掣部,且位于底板之凸缘上端设有一下抵掣部, 乃将上述之低劲度弹簧的二端分别抵掣于该上、 下抵掣部。5.依据申请专利范围第1项所述之可独 立控制保持环压力之气囊式浮动研磨头,其中,该 外壳之上方向上突设有一头部,且该导管系与该头 部呈滑动配合地组合。6.依据申请专利范围第1项 所述之可独立控制保持环压力之气囊式浮动研磨 头,其中,该内凹腰身部之内凹角度,系在组装之主 气囊产生预拉后之角度须大于48为较佳。图式简 单说明: 第一图为显示本创作浮动研磨头总成之平面组合 图; 第二图为显示本创作之浮动头磨头至晶圆承载盘( Loadcup)准备吸取晶圆之局部平面剖视图; 第三图为显示本创作之浮动研磨头之副气囊低压 充气,使保持环压缩晶圆承载盘周围,同时晶圆承 载盘下方喷水将晶圆与主气囊贴紧之局部平面剖 视图; 第四图为显示本创作之主气囊室产生负压,使得底 板空洞处之气囊向内隆起,形成吸盘作用,而将晶 圆吸起之局部平面剖视图; 第五图为显示本创作之气缸上昇,并使浮动研磨头 移至研磨盘上方定点,接着气缸再下降至下死点之 局部平面剖视图; 第六图为显示本创作之主气囊充气,且副气囊高压 充气以补偿研磨之边界效应(Side Effect),并开始进 行研磨之局部平面剖视图。 |
