| 发明名称 |
Exposure unit, exposure system and device manufacturing method |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0863439(A3) |
申请公布日期 |
2000.01.19 |
| 申请号 |
EP19980301384 |
申请日期 |
1998.02.25 |
| 申请人 |
CANON KABUSHIKI KAISHA |
发明人 |
NAKAMURA, TAKASHI;YAMADA, YASUYOSHI;KYOTOKU, SATOSHI |
| 分类号 |
G03F7/20;(IPC1-7):G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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