发明名称 | 轨道治具 | ||
摘要 | 一种轨道治具,包括有:一个固定基座(10)、一个转动座(20)、两个固定滚子(30)及一个调节滚子(40)。该转动座枢设于固定基座上,并可适当固定。转动座上设有一纵向滑槽,该纵向滑槽两端各螺接有一结合有把手的调节螺栓。两个固定滚子固定枢设于转动座上,并分别位于纵向滑槽两侧,这两个滚子预留有一定间距,可供调节滚子穿过。一个调节滚子底部枢设于一个调节座上,该调节座滑动配合于转动座的纵向滑槽内,使调节滚子可随调节座带动位移,可选择性地移动至两个固定滚子两侧,且固定滚子及调节滚子设置于一个转动座上,转动座可依需要转动调整。 | ||
申请公布号 | CN2359021Y | 申请公布日期 | 2000.01.19 |
申请号 | CN98218221.X | 申请日期 | 1998.08.07 |
申请人 | 沈伟宏 | 发明人 | 沈伟宏 |
分类号 | B21C23/06 | 主分类号 | B21C23/06 |
代理机构 | 北京金之桥专利事务所 | 代理人 | 林建军 |
主权项 | 1、一种轨道治具,其特征在于包括有:一个固定基座(10);一个转动座(20),其枢设于固定基座(10)上,可作自由转动,并可适当固定,转动座(20)上设有一纵向滑槽(23),该纵向滑槽(23)两端各螺接有一结合有把手的调节螺栓(24);两个固定滚子(30),其固定枢设于转动座(20)上,并分别位于纵向滑槽(23)两侧,这两个滚子预留有一定间距,可供调节滚子(40)穿过;及一个调节滚子(40),其底部枢设于一个调节座(41)上,该调节座(41)滑动配合于转动座(20)的纵向滑槽(23)内,使调节滚子可随调节座(41)带动位移。 | ||
地址 | 中国台湾台北市 |