A PREPARING METHOD OF PHOTOLITHOGRAPHIC MASK DEFECTS,申请号KR19970018026-传众专利搜索

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发明名称	A PREPARING METHOD OF PHOTOLITHOGRAPHIC MASK DEFECTS
摘要
申请公布号	KR100240867(B1)	申请公布日期	2000.01.15
申请号	KR19970018026	申请日期	1997.05.09
申请人	SAMSUNG ELECTRONICS CO, LTD.	发明人	LEE, KYOUNG-HEE;CHO, HAN-GU
分类号	H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027	主分类号	H01L21/027
代理机构		代理人
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