发明名称 METHOD OF OPERATING A HIGH DENSITY PLASMA CVD REACTOR WITH COMBINED INDUCTIVE AND CAPACITIVE COUPLING
摘要
申请公布号 KR100240534(B1) 申请公布日期 2000.01.15
申请号 KR19950010291 申请日期 1995.04.28
申请人 APPLIED MATERIALS, INCORPORATED 发明人 SAHIN, TURGUT;REDEKER, FRED C.;NOWAK, ROMUALD;LI, SHIJIAN;DYER, TIMOTHY;WITTY, DEREK R.
分类号 H05H1/46;C23C16/44;C23C16/50;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/302 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
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