| 发明名称 |
ETCHING METHOD AND APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR100237939(B1) |
申请公布日期 |
2000.01.15 |
| 申请号 |
KR19960059237 |
申请日期 |
1996.11.29 |
| 申请人 |
KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA |
发明人 |
GANEKO, MINAKO;SAMAZAKA, AYAKO;ISIZAKI, ICHIRO |
| 分类号 |
G01N1/28;H01L21/00;H01L21/302;H01L21/304;H01L21/306;H01L21/308;H01L21/66;(IPC1-7):H01L21/304 |
主分类号 |
G01N1/28 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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