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发明名称 POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION
摘要
申请公布号 KR100239185(B1) 申请公布日期 2000.01.15
申请号 KR19940000568 申请日期 1994.01.14
申请人 SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD. 发明人 TAKEYAMA, NAOKI;UEKI, HIROMI;UEDA, YUJI;KUSUMOTO, TAKEHIRO;NAKANO, YUKO
分类号 C08F212/14;C08F12/00;C09D125/00;C09D125/18;G03F7/004;G03F7/039;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/04 主分类号 C08F212/14
代理机构 代理人
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