发明名称 磁头及制造磁头的方法
摘要 提供一种磁头和制造该磁头的方法,能够通过对磁极整形提高所产生的磁场强度。该制造磁头的方法包括的步骤有:形成下记录磁极和上记录磁极,对邻近上记录磁极的浮动表面的细长磁级部分和位置低于和围绕该细长磁极部分的下记录磁极的上部分利用离子磨削法进行局部修整,其中细长磁级部分的芯体宽度可以调节。
申请公布号 CN1240979A 申请公布日期 2000.01.12
申请号 CN98126099.3 申请日期 1998.12.28
申请人 富士通株式会社 发明人 大冢善德;田河育也;池川幸德;沓泽智子;上原祐二;长谷川实
分类号 G11B5/39;G11B5/31 主分类号 G11B5/39
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 杜日新
主权项 1.一种制造磁头的方法,包括步骤:形成下记录磁极和上记录磁极;以及对所述上记录磁极的浮动表面附近的细长磁极部分和位于低于并围绕所述细长磁极部分的所述下记录磁极的上部分利用离子磨削法进行局部修整,以此调节所述细长磁极部分的芯体宽度。
地址 日本神奈川