喷墨印头晶片的制造方法

摘要

一种喷墨印头晶片的制造方法,包括:在绝缘层上方形成第一与第二金属层;在第二金属层上方施加第一光致抗蚀剂,以第一金属层的光掩模曝光显影,限定第一光致抗蚀剂的图案;蚀刻第二金属层,去除第一光致抗蚀剂;蚀刻第一金属层,以未蚀刻的第二金属层部分为保护层;在第一与第二金属层上方施加第二光致抗蚀剂,以第二金属层的光掩模曝光显影,限定第二光致抗蚀剂图案;蚀刻第二金属层;以及形成喷墨印头晶片。

主权项

1.一种喷墨印头晶片的制造方法，应用于一印头晶片中的一基板上，所述基板上方具有一热阻层、一导电层与一绝缘层，所述方法包括以下步骤：在所述绝缘层上方形成一第一金属层与一第二金属层，其中所述第二金属层形成于所述第一金属层上方；在所述第二金属层上方施加一第一光致抗蚀剂，以所述第一金属层的光掩模曝光显影，限定所述第一光致抗蚀剂的图案；蚀刻所述第二金属层，之后去除所述第一光致抗蚀剂；蚀刻所述第一金属层，并且以未蚀刻的所述第二金属层部分为保护层；在所述第一与所述第二金属层上方施加一第二光致抗蚀剂，并且以所述第二金属层的光掩模曝光显影，限定所述第二光致抗蚀剂图案；蚀刻所述第二金属层；以及形成所述喷墨印头晶片。