| 摘要 |
Gegenstand der Erfindung sind ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Messung des Sauerstoffpotentials in einer Siliciumschmelze mittels einer elektrochemischen Potentialsonde, die in die Schmelze eintaucht, dadurch gekennzeichnet, daß die Sondenspannung mit einer Potentialsonde gemessen wird, die aus einem SiO2-Glasröhrchen besteht, in dem sich Graphit in direktem Kontakt mit SiO2-Glas befindet, welcher am oberen Ende mit einem Metalldraht kontaktiert ist, und die Sonde nur soweit in die Siliciumschmelze eingetaucht wird, daß der von dem SiO2-Glasröhrchen eingeschlossene Kontaktpunkt zwischen Graphit und Metalldraht oberhalb der Siliciumschmelze liegt. <IMAGE>
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