发明名称 半导体元件中之配线宽度测定模型及测定方法
摘要 为了测定配线宽度,提供了一种配线宽度之测定模型;此测定模型包含:一个有第一宽度之第一模型;一个连接在所述第一模型后之第二模型,有比第一宽度还宽之第二宽度;以及一个连接在所述第二模型后之第三模型,有比所述第一宽度还窄之第三宽度;其中第一模型、第二模型、和第三模型皆由相同材料所制作;第一模型经由一电源与第三模型相连接,第一对探针接在第一模型上,且与第一伏特计相连接;第一对探针间之距离为第一间距,第一间距比第一宽度宽;第二对探针接在第二模型上,且与第二伏特计相连接;第二对探针间之距离为第二间距,第二间距比第一宽度宽;所以,由第一伏特计与第二伏特计所量得之电压,可决定第一宽度;第二宽度大体上为第一宽度之十倍以上;第三宽度之宽度够窄,使流经的电流能均匀通过。
申请公布号 TW379398 申请公布日期 2000.01.11
申请号 TW087110031 申请日期 1998.06.22
申请人 现代电子产业股份有限公司 发明人 金吉浩;申讲燮;金钟一
分类号 H01L21/66 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人 廖瑞堂 台北巿民生东路三段二十一号十楼
主权项 1.一种配线宽度之测定模型,包含:一个有第一宽度之第一模型;一个连接在所述第一模型后之第二模型,有比所述第一宽度还宽之第二宽度;以及一个连接在所述第二模型后之第三模型,有比所述第一宽度还窄之第三宽度;其中所述之第一模型、第二模型、和第三模型皆由相同材料所制作。2.如申请专利范围第1项所述之测定模型,其中所述第二宽度大体上为所述第一宽度之十倍以上。3.如申请专利范围第1项所述之测定模型,其中所述之第三宽度的宽度足够窄,使得流经之电流能均匀通过。4.如申请专利范围第1项所述之测定模型,其中所述之第一模型与第二模型之连接处及所述之第二模型与第三模型之连接处,皆以选定的角度倾斜,以避免电流产生乱流之现象。5.如申请专利范围第2项所述之测定模型,其中所述之第一模型与第二模型之连接处及所述之第二模型与第三模型之连接处,皆以选定的角度倾斜,以降低电流产生乱流之现象。6.如申请专利范围第3项所述之测定模型,其中所述之第一模型与第二模型之连接处及所述之第二模型与第三模型之连接处,皆以选定的角度倾斜,以降低电流产生乱流之现象。7.一种配线宽度之测定模型,包含:一个有第一宽度之第一模型一个连接在所述第一模型后之第二模型,有比所述第一宽度还宽十倍以上之第二宽度;以及一个连接在所述第二模型后之第三模型,且有宽度足够窄的第三宽度,使得流经之电流能均匀通过;其中所述之第一模型、第二模型、和第三模型皆由相同材料所制作。8.如申请专利范围第7项所述之测定模型,其中所述之第一模型与第二模型之连接处及所述之第二模型与第三模型之连接处,皆以选定的角度倾斜,以降低电流产生乱流之现象。9.一种配线宽度之测定方法,包含下列步骤:准备有配线宽度之测定模型,所述之测定模型包含:(a)一个有第一宽度之第一模型;(b)一个连接在所述第一模型后之第二模型,有比所述第一宽度还宽之第二宽度;以及(c)一个连接在所述第二模型后之第三模型,有比所述第一宽度还宽之第三宽度;其中所述之第一模型、第二模型、和第三模型皆由相同材料所制作;将所述之第一模型经由一电源与所述之第三模型相连接;将第一对探针接在所述之第一模型上,且将所述之第一对探针与第一伏特计相连接;其中所述之第一对探针间之距离为第一间距,所述之第一间距比所述之第一宽度宽;将第二对探针接在所述之第二模型上,且将所述之第二对探针与第二伏特计相连接;其中所述之第二对探针间之距离为第二间距,所述之第二间距比所述之第一宽度宽;由所述之第一伏特计与第二伏特计所量得之电压,可决定所述之第一宽度。10.如申请专利范围第9项所述之方法,其中所述之第一宽度是由下列方程式所决定:w=(W*s/S)*(V/v)其中w为所述之第一宽度,W为所述之第二宽度,s为所述之第一间距,S为所述之第二间距,v为所述之第一伏特计之电压读値,V为所述之第二伏特计之电压读値。11.如申请专利范围第10项所述之方法,其中所述第二宽度大体上为所述第一宽度之十倍以上。12.如申请专利范围第10项所述之方法,其中所述之第三宽度的宽度足够窄,使得流经之电流能均匀通过。13.如申请专利范围第10项所述之方法,其中所述之第一模型与第二模型之连接处及所述之第二模型与第三模型之连接处,皆以选定的角度倾斜,以降低电流产生乱流之现象。14.如申请专利范围第11项所述之方法,其中所述之第一模型与第二模型之连接处及所述之第二模型与第三模型之连接处,皆以选定的角度倾斜,以降低电流产生乱流之现象。15.如申请专利范围第12项所述之方法,其中所述之第一模型与第二模型之连接处及所述之第二模型与第三模型之连接处,皆以选定的角度倾斜,以降低电流产生乱流之现象。16.如申请专利范围第10项所述之方法,其中所述之第一间距大约为所述第一宽度之十倍以上。17.如申请专利范围第10项所述之方法,其中所述之第二间距大约为所述第一宽度之十倍以上。18.一种配线宽度之测定方法,包含下列步骤:准备有配线宽度之测定模型,所述之测定模型包含:(a)一个有第一宽度之第一模型;(b)一个连接在所述第一模型后之第二模型,有比所述第一宽度宽十倍以上之第二宽度;以及(c)一个连接在所述第二模型后之第三模型,有宽度足够窄之第三宽度,使流过所述之第三模型之电流能均匀通过;并且其中所述之第一模型、第二模型、和第三模型皆由相同材料所制作;将所述之第一模型经由一电源与所述之第三模型相连接;将第一对探针接在所述之第一模型上,且将所述之第一对探针与第一伏特计相连接;其中所述之第一对探针间之距离为第一间距,所述之第一间距为所述第一宽度之十倍以上;将第二对探针接在所述之第二模型上,且将所述之第二对探针与第二伏特计相连接;其中所述之第二对探针间之距离为第二间距,所述之第二间距为所述第一宽度之十倍以上;并且由所述之第一伏特计与第二伏特计所量得之电压,可决定所述之第一宽度。19.如申请专利范围第18项所述之方法,其中所述之第一宽度是由下列方程式所决定:w=(W*s/S)*(V/v)其中w为所述之第一宽度,W为所述之第二宽度,s为所述之第一间距,S为所述之第二间距,v为所述之第一伏特计之电压读値,V为所述之第二伏特计之电压读値。20.如申请专利范围第18项所述之方法,其中所述之第一模型与第二模型之连接处及所述之第二模型与第三模型之连接处,皆以选定的角度倾斜,以降低电流产生乱流之现象。图式简单说明:第一图所示为使用四点探针量测配线宽度之方法。第二图所示为依据本发明量测配线宽度之方法。
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