| 主权项 |
1.一种非晶性板片,其厚度介于0.8至20毫米范围内, 且包含主成份聚对苯二甲酸乙二醇酯及至少一种 抗氧剂, 其中该抗氧剂以板片中聚对苯二甲酸乙二醇酯重 量计之浓度为0.1至6重量%,且该抗氧剂系选自立体 受阻酚、二级芳族胺、亚磷酸酯、亚膦酸酯、硫 醚、碳化二亚胺及二丁基二硫代胺甲酸锌。2.如 申请专利范围第1项之板片,其中该抗氧剂系为2-[(2 ,4,8,10-四(1,1-二甲基乙基)二苯并[d,f][1,3,2]二氧杂 弗司弗派-6-基]氧基)乙基]乙胺及/或亚磷酸三(2,4- 第三丁苯基)酯。3.如申请专利范围第1项之板片, 其中该板包含至少一种UV安定剂。4.如申请专利范 围第3项之板片,其中UV安定剂之浓度以可结晶热塑 料计系介于0.01至5重量%范围内。5.如申请专利范 围第3或4项之板片,其中该UV安定剂系选自2-烃基苯 并三唑及三。6.如申请专利范围第5项之板片,其 中该UV安定剂系选自2-(4,6-二苯基-1,3,5-三-2-基)-5 -(己基)氧基酚及2,2'-亚甲基双(6-(2H-苯并三唑-2-基) -4-(1,1,3,3-四甲基丁基)酚)。7.如申请专利范围第1 或3项之板片,其中该板片包含至少一种着色剂。8. 如申请专利范围第7项之板片,其中该着色剂系选 自染料及颜料。9.如申请专利范围第1项之板片,其 中该板片之至少一面上具有耐刮磨涂层。10.如申 请专利范围第9项之板片,其中该耐刮磨涂层含有 矽及/或丙烯酸系树脂。11.如申请专利范围第1或3 项之板片,其中该板片具有多层结构,具有至少一 覆层及至少一心层。12.如申请专利范围第11项之 板片,其中该心层中聚对苯二甲酸乙二醇酯之标准 粘度大于相邻覆层中聚对苯二甲酸乙二醇酯者。 13.如申请专利范围第11或12项之板片,其中该板片 具有多层结构,具有两覆层及夹置于覆层间之一心 层。14.如申请专利范围第11或12项之板片,其中包 含至少一种抗氧剂,其系包含于覆层中。15.如申请 专利范围第11或12项之板片,其中包含至少一种UV安 定剂,其系包含于覆层中。16.一种制造如申请专利 范围第1至10项中任一项之单层非晶性板片之方法, 其中聚对苯二甲酸乙二醇酯系于挤塑中与所包含 之至少一种抗氧剂一起熔化,熔体经由模口成型, 形成之板片经分级、抛光,并于具有至少两个滚筒 之抛光通道中冷却,抛光通道之第一个滚筒温度介 于50至80℃范围内,其中该抗氧剂以板片中聚对苯 二甲酸乙二醇酯重量计之浓度为0.1至6重量%,且该 抗氧剂系选自立体受阻酚、二级芳族胺、亚磷酸 酯、亚膦酸酯、硫醚、碳化二亚胺及二丁基二硫 代胺甲酸锌。17.一种制造如申请专利范围第11至15 项中任一项之多层非晶板片之方法,其中用于心层 之至少一种聚对苯二甲酸乙二醇酯于主要挤塑机 中熔化,而用于覆层之至少一种聚对苯二甲酸乙二 醇酯与所包含之至少一种抗氧剂一起于共挤塑机 中熔化,熔体层层相叠,叠合之料层经模口成型并 分级,抛光,并于具有至少两个滚筒之抛光通道中 冷却,该抛光通道之第一个滚筒温度介于50至80℃ 范围内,其中该抗氧剂以板片中聚对苯二甲酸乙二 醇酯重量计之浓度为0.1至6重量%,且该抗氧剂系选 自立体受阻酚、二级芳族胺、亚磷酸酯、亚膦酸 酯、硫醚、碳化二亚胺及二丁基二硫代胺甲酸锌 。18.如申请专利范围第16或17项之方法,其中该聚 对苯二甲酸乙二醇酯系于挤塑前于由160至180℃范 围内之温度下预先乾燥4至6小时。19.如申请专利 范围第16或17项之方法,其中该聚对苯二甲酸乙二 醇酯溶体之温度系于250至320℃范围内。20.如申请 专利范围第16或17项之方法,其中选自抗氧剂、UV安 定剂及着色剂之添加剂系经由母体混合物技术添 加。21.如申请专利范围第1项之板片,其系用于户 外及户内部分。 |
