发明名称 衍生物
摘要 本发明系关于一种如下式化合物及其制药容许盐:CC (I)式中R1及R2各为氢或相连形成伸乙烯,R3为氢或低烷基,R4为杂环基,R5为氢或硝基,且X为CH或N,其具有如5-羟色胺(5-HT)拮抗作用之药理活性。
申请公布号 TW379224 申请公布日期 2000.01.11
申请号 TW086118086 申请日期 1997.12.02
申请人 藤泽药品工业股份有限公司 发明人 伊藤清隆;格林W.史皮尔斯;山中敏夫;原田敬子;野田由香;佐佐木弘;高桥史江
分类号 A61K31/33;C07D521/00 主分类号 A61K31/33
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种如下式(I)化合物及其制药容许盐: 式中R1及R2各为氢或相连形成伸乙烯, R3为氢或低烷基, R4为咪唑基,唑基,啶基,嘧啶基,三唑基,咪唑 基,2-咪唑酮基,2-咪唑酮基,唑基,异唑基, 唑基,其各可有一以上取代基选自苯基,胺基,低烷 基,基,氧羰基或三卤低烷基, R5为氢或硝基,且 X为CH或N。2.一种制备下式化合物及其制药容许盐 之制法: 式中R1及R2各为氢或相连形成伸乙烯, R3为氢或低烷基, R4为咪唑基,唑基,啶基,嘧啶基,三唑基,咪唑 基,2-咪唑酮基,2-咪唑酮基,唑基,异唑基, 唑基,其各可有一以上取代基选自苯基,胺基,低烷 基,基,氧羰基或三卤低烷基, R5为氢或硝基,且 X为CH或N, 其含 (1)将下式化合物或其盐: 式中R3之定义如上, 进行还原可得下式化合物或其盐: 式中R3之定义如上, 次与羰基二咪唑反应, 再与下式化合物或其盐反应: 式中R4,R5,及X之定义如上, 可得下式化合物或其盐: 式中R3,R4,R5,及X之定义如上,或 (2)将下式化合物或其盐: 式中R4,R5,及X之定义如上, 与二苯磷叠氮反应, 再与下式化合物或其盐反应: 式中R1,R2,及R3之定义如上, 可得下式化合物或其盐: 式中R1,R2,R3,R5,及X之定义如上,或 (3)将下式化合物或其盐: 式中R1,R2,R3,R5及X之定义如上,Z为醯基,进行还原可 得下式化合物或其盐: 式中R1,R2,R3,R4,R5及X之定义如上,或 (4)将下式化合物或其盐: 式中R1,R2,R3,R5,及X之定义如上, 与下式化合物反应: 可得下式化合物或其盐: 式中R,R2,R3,R5及X之定义如上,或 (5)将下式化合物或其盐: 式中R1,R2,R3,R5及X之定义如上, 与下式化合物反应: 可得下式化合物或其盐: 式中R1,R2,R3,R5及X之定义如上,或 (6)将下式化合物或其盐: 式中R4,R5及X之定义如上, 与下式化合物或其盐反应: 式中R1,R2及R3之定义如上, 可得下式化合物或其盐: 式中R1,R2,R3,R4,R5,及X之定义如上,或 (7)将下式化合物或其盐: 式中R4,R5及X之定义如上, 与羰基二咪唑反应, 再与下式化合物或其盐反应: 式中R3之定义如上, 可得下式化合物或其盐: 式中R3,R4,R5,及X之定义如上,或 (8)将下式化合物或其盐: 式中R4,R5及X之定义如上, 与下式化合物或其盐反应: 式中R1,R2及R3之定义如上, 可得下式化合物或其盐: 式中R1,R2,R3,R4,R5及X之定义如上,或 (9)将下式化合物或其盐: 式中R4,R5及X之定义如上, 与下式化合物反应: 再与下式化合物或其盐反应: 式中R1,R2及R3之定义如上, 可得下式化合物或其盐: 式中R1,R2,R3,R4,R5及X之定义如上。3.一种5-羟色胺拮 抗剂医药组成物,其含如申请专利范围第1项化合 物或其制药容许盐为活性成分,混合以制药容许载 体。4.如申请专利范围第3项之组成物,用以防治中 枢神经系(CNS)异常如忧虑、抑郁、强迫行为异常 、偏头痛、压食症、Alzheimer氏症、睡眠异常、贪 食症、燥急、脱瘾药物滥用如古柯硷、酒精、尼 古丁及苯骈二庚因,精神分裂、及与脊柱创伤相 联之异常及/或头受伤如水脑。
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