发明名称 半导体装置
摘要 【课题】当IC密集度增高时伴随而来之半导体装置之垫距缩小,而影响接线工程及IC之可靠度之问题。【解决手段】一种半导体装置,包括:缓冲器区域,具有对于半导体晶片之一边所配置之复数个缓冲器;垫区域,具有至少缓冲器数目之垫,且较上述缓冲器区域配置于上述半导体晶片的外侧;信号线,分别连接上述垫及上述缓冲器;以及电源线及接地线,连接上述垫的剩余部份;其中上述电源线与接地线至少其中之一者系藉由上述信号线及绝缘层而部份重叠。
申请公布号 TW378395 申请公布日期 2000.01.01
申请号 TW086118476 申请日期 1997.12.08
申请人 三菱电机股份有限公司 发明人 龟田英夫;上田直人;五井阳一;谷口秀树
分类号 H01L21/82;H01L27/10;H01L27/118 主分类号 H01L21/82
代理机构 代理人 洪澄文 台北巿信义路四段二七九号三楼
主权项 1.一种半导体装置,包括: 缓冲器区域,具有对于半导体晶片之一边所配置之 复数个缓冲器; 垫区域,具有至少缓冲器数目之垫,且较上述缓冲 器区域配置于上述半导体晶片的外侧; 信号线,分别连接上述垫及上述缓冲器;以及 电源线及接地线,连接上述垫的剩余部份; 其特征在于: 上述电源线与接地线至少其中之一者系藉由上述 信号线及绝缘层而部份重叠。2.一种半导体装置, 包括: 缓冲器区域,具有对于半导体晶片之一边所配置之 复数个缓冲器; 垫区域,具有至少缓冲器数目之垫,且较上述缓冲 器区域配置于上述半导体晶片的外侧,并藉由信号 线而分别与上述缓冲器连接;以及 垫,较上述缓冲器区域配置于上述晶片的内侧,而 与电源线及接地线连接。3.申请专利范围第1或2项 记载之半导体装置,其中信号线由第1信号线及第2 信号线所构成,且藉由其他绝缘体而部份重叠。4. 如申请专利范围第2项记载之半导体装置,其中垫 区域之未与信号线连接之垫系与电源线及接地线 至少其中之一者连接,此其中之一者系与信号线藉 由绝缘体而部份重叠。图式简单说明: 第一图显示根据本发明实施型态1之半导体装置之 晶片结构图。 第二图显示根据本发明实施型态1之半导体装置之 部分扩大图。 第三图显示根据本发明实施型态1之半导体装置断 面图。 第四图显示根据本发明实施型态2之半导体装置之 晶片结构图。 第五图显示根据本发明实施型态2之半导体装置之 部分扩大图。 第六图显示根据本发明实施型态2之半导体装置之 部分说明图。 第七图显示以往之半导体装置之部分说明图。 第八图显示以往之半导体装置之晶片结构图。 第九图显示以往之半导体装置之部分扩大图。
地址 日本