发明名称 Diazo-sulphonyl halides for photo lacquer
摘要 <p>Photolacquer compsn. contains alkali-soluble base resin in discrete mixture with diazosulphonyl halide of formula: (where X is halogen atom and A and B are N2 or O and are different). Sulphonyl halides of naphthoquinone diazides in this mixture provide higher sensitivity and resolution comparable to photolacquers prepd. with quinone diazides rendered insoluble.</p>
申请公布号 FR2075039(A5) 申请公布日期 1971.10.08
申请号 FR19700045287 申请日期 1970.12.08
申请人 IBM 发明人
分类号 G03F7/022;(IPC1-7):03C1/00;01L7/00 主分类号 G03F7/022
代理机构 代理人
主权项
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