| 发明名称 |
APPARATUS AND PROCESS FOR CONTROLLED ATMOSPHERE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION |
| 摘要 |
<p>본 발명은 개선된 화학 기상 증착 장치와 그 방법을 제공한다. 본 발명의 기술은 CVD 코팅층을 형성할때 수반되는 반응 영역과 증착 영역의 개량된 차폐층(shielding)을 형성하는데, 상기 CVD 코팅층은 고온에 민감하고, 진공 챔버 또는 그와 유사한 챔버내에서 처리하기에 너무 크거나 불편한 기판상에 대기중의 성분에 민감한 재료로 되어 있는 대기압하에서 제조할 수 있다. 본 발명에 따른개선된 기술은 다양한 에너지 소스를 사용할 수 있으며, 연소 화학 기상 증착(CCVD)기술에 특히 적합하다.</p> |
| 申请公布号 |
KR19990087964(A) |
申请公布日期 |
1999.12.27 |
| 申请号 |
KR19990014963 |
申请日期 |
1999.04.27 |
| 申请人 |
마이크로코팅 테크놀로지, 인크. |
发明人 |
헌트앤드류티;샨무감서브라마니암;다니엘슨윌리암디;루텐헨리에이;황티지지유안;데시판드기리시 |
| 分类号 |
C23C16/44;B05D1/08;C23C16/14;C23C16/18;C23C16/30;C23C16/34;C23C16/36;C23C16/40;C23C16/448;C23C16/453;C23C16/455;C23C16/50 |
主分类号 |
C23C16/44 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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