发明名称 GAS FILLING METHOD AND DEVICE AND METHOD FOR FILLING DISCHARGE GAS INTO PLASMA DISPLAY PANEL
摘要 <p>본 발명은 판넬내에 주입되는 방전가스에 혼입되는 불순물을 제거하고, 또한 판넬내에 잔류하는 불순물 가스의 농도가 균일하게 되는 플라즈마 디스플레이 판넬의 제조방법을 제공하는 것이다. 파이프(2)는 플라즈마 디스플레이 판넬(1)에 접속되어 있다. 비증발형 게터(6)는 파이프(2)내부에 배치되어 있다. 판넬(1), 게터(6) 및 상기 판넬(1)과 상기 게터(6) 사이에 위치한 파이프(2)의 일부분이 가열된다. 가열된 판넬(1)의 내부공간은 가열된 파이프(2)를 통해 진공이 된다. 진공이 된 후, 가열공정은 정지되고 판넬(1)이 냉각된다. 방전가스가 파이프(2)를 통해 판넬(1)속으로 주입된다. 방전가스중에 포함된 불순물가스는 열에 의해 활성화된 활성화 게터(6)에 의해 흡착되어 제거된다. 진공공정 중에는, 불순물가스는 파이프(2)의 가열부 내벽에 흡착되지 않는다. 따라서, 방전가스중의 불순물 가스는 게터(6)에 의해 흡착되므로 불순물가스는 방전가스에 혼입되지 않는다. 따라서, 불순물가스는 판넬(1)에 주입되지 않는다. 판넬이 방전가스로 주입된 이후, 파이프는 절단되고 봉입된다.</p>
申请公布号 KR19990088411(A) 申请公布日期 1999.12.27
申请号 KR19990018112 申请日期 1999.05.19
申请人 null, null 发明人 타나카,요시토
分类号 H01J9/39;H01J9/395;H01J9/40;H01J11/46;H01J11/48;H01J11/52;H01J11/54;H01J17/24 主分类号 H01J9/39
代理机构 代理人
主权项
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