发明名称 VACUUM TREATMENT SYSTEM AND ITS STAGE
摘要 본 발명은 웨이퍼의 고온처리에 적합한 정전 흡착수단부착 처리대 및 상기 처리대를 구비한 진공처리장치를 제공하는 것이다. 이를 위하여 처리실에 설치된 처리대를 구비하고 감압분위기내에서 상기 피처리물을 상기 처리대에 정전 흡착하고, 상기 처리대를 가열하여 상기 피처리물을 고온에서 처리하는 진공처리장치에 있어서, 상기 처리대의 전극부재를 티타늄 또는 티타늄합금으로 하고, 그 전극부재의 위에 정전 흡착용 유전체막을 형성한다. 또한 티타늄과 알루미나 세라믹스는 재료끼리의 접착의 상의 성질이 좋지 않기 때문에, 니켈합금(Ni. AL)을 사이에 끼우는 것이 바람직하다.
申请公布号 KR19990088505(A) 申请公布日期 1999.12.27
申请号 KR19990018675 申请日期 1999.05.24
申请人 null, null 发明人 가도타니마사노리;가나이사부로;이토요이치;후지이다카시;가와하라히로노부;하마사키료지;다카하시가즈에;요시가이모토히코
分类号 C23F4/00;H01L21/00;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/683 主分类号 C23F4/00
代理机构 代理人
主权项
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