发明名称 用于制造体积型相位全像图之光敏记录材料和光敏记录介质及使用该光敏记录介质制造全像图之方法
摘要 一种用于制造体积型相位全像图之光敏记录材料,其包括:能够进行阳离子聚合反应之可溶于溶剂的热固性双酚A型环氧寡聚物、系下列式V所示者:CC(式中,X为氢原子或溴原子,n介于1~20之间);该热固性双酚A型环氧寡聚物之环氧当量介于400~6,000之间,而熔点则在60℃或以上;至少具有一个乙烯系不饱和键之脂族单体,该脂族单体在常温常压下为液态,其常压下的沸点在100℃或以上,并且能够进行自由基聚合反应;从下述群中选出之光聚合起始剂:i)在光谱敏化剂之存在下进行可见光线曝光之际,藉敏化剂之作用以进行随后之敏化而能够同时产生自由基物种(用以活性化自由基聚合反应)与布忍斯特酸或路以士酸(用以活性化阳离子聚合反应)之第一类光聚合起始剂化合物,ii)由能够产生自由基物种(系在光谱敏化剂之存在下进行可见光线曝光之际,藉敏化剂之作用以进行随后之敏化而活性化自由基聚合反应)之自由基光聚合起始剂与能够产生布忍斯特酸或路以士酸(系在光谱敏化剂之存在下进行可见光线曝光之际,藉敏化剂之作用以进行随后之敏化而活性化阳离子聚合反应)之阳离子光聚合起始剂之混合物组成之第二类光聚合起始剂;以及吸收可见光线、且将第一类光聚合起始剂或第二类光聚合起始剂予以敏化之光谱敏化剂;而且该脂族单体之混合量相对于100份重的热固性双酚A型环氧寡聚物重量而言,是介于20~80份重之间。使用此光敏记忆材料能够制得具备优异的绕射效率、透明度和耐候性(例如耐性)以及化学安定性之体积型相位全像图。
申请公布号 TW377404 申请公布日期 1999.12.21
申请号 TW084102058 申请日期 1995.03.04
申请人 凸版印刷股份有限公司 发明人 大江靖;伊藤浩光;安池圆;鸟羽泰正;鹿野美纪
分类号 C08L63/00;G03F7/027;G03G5/00 主分类号 C08L63/00
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种用于制造体积型相位全像图之光敏记录材 料,其包括: 能够进行阳离子聚合反应之可溶于溶剂的热固性 双酚A型环氧寡聚物、系下列式V所示者: (式中,X为氢原子或溴原子,n介于1-20之间);该热固 性双酚A型环氧寡聚物之环氧当量介于400-6,000之间 ,而熔点则在60℃或以上; 至少具有一个乙烯系不饱和键之脂族单体,该脂族 单体在常温常压下为液态,其常压下的沸点在100℃ 或以上,并且能够进行自由基聚合反应; 从下述群中选出之光聚合起始剂:i)在光谱敏化剂 之存在下进行可见光线曝光之际,藉敏化剂之作用 以进行随后之敏化而能够同时产生自由基物种(用 以活性化自由基聚合反应)与布忍斯特酸或路以士 酸(用以活性化阳离子聚合反应)之第一类光聚合 起始剂化合物,ii)由能够产生自由基物种(系在光 谱敏化剂之存在下进行可见光线曝光之际,藉敏化 剂之作用以进行随后之敏化而活性化自由基聚合 反应)之自由基光聚合起始剂与能够产生布忍斯特 酸或路以士酸(系在光谱敏化剂之存在下进行可见 光线曝光之际,藉敏化剂之作用以进行随后之敏化 而活性化阳离子聚合反应)之阳离子光聚合起始剂 之混合物组成之第二类光聚合起始剂;以及 吸收可见光线、且将第一类光聚合起始剂或第二 类光聚合起始剂予以敏化之光谱敏化剂; 而且该脂族单体之混合量相对于100份重的热固性 双酚A型环氧寡聚物重量而言,是介于20-80份重之间 。2.如申请专利范围第1项之用于制造体积型相位 全像图之光敏记录材料,其中该脂族单体之混合量 对于100份重的热固性双酚A型环氧寡聚物而言,为40 至70份重。3.如申请专利范围第1或2项之用于制造 体积型相位全像图之光敏记录材料,其中该脂族单 体是如化学式VI所代表之聚乙二醇二丙烯酸酯或 聚乙二醇二甲基丙烯酸酯,或聚丙二醇二丙烯酸酯 或聚丙二醇二甲基丙烯酸酯; 式中,R5-R7各代表氢原子或甲基,m和n各为0或0以上, 且m+n介于1-20之间。4.如申请专利范围第1或2项之 用于制造体积型相位全像图之光敏记录材料,其中 该第一类光聚合起始剂化合物是从下述群中选出: 铁芳烃错合物、三卤素甲基取代均三、铳盐、 重氮盐、錪盐、鏻盐、金西盐和金申盐。5.如申 请专利范围第1或2项之用于制造体积型相位全像 图之光敏记录材料,其中该光谱敏化剂是从下述群 中选出之可见光线吸收性有机化合物:花青衍生物 、部花青衍生物、香豆素衍生物、查酮衍生物、 二苯并喃衍生物、硫代二苯并喃衍生物、 azulenium衍生物、squarilium衍生物、四苯基衍生 物、四苯并衍生物和四基衍生物。6.一 种用于制造体积型相位全像图之光敏记录介质,其 包括: 基板; 在基板上面涂布由光敏记录材料组成之光敏溶液, 然后乾燥形成之光敏层;该光敏记录材料是由以下 各主要成分组成:能够进行阳离子聚合反应之可溶 于溶剂的热固性双酚A型环氧寡聚物、系如上式V 所示者,该热固性双酚A型环氧寡聚物之环氧当量 为400至6000.熔点为60℃或以上;至少具有一个乙烯 系不饱和键之脂族单体,该脂族单体在常温常压下 为液态,其在常压下的沸点在100℃或以上,并且能 够进行自由基聚合反应;从下述群中选出之光聚合 起始剂:i)在光谱敏化剂之存在下进行可见光线曝 光之际,藉敏化剂之作用以进行随后之敏化而能够 同时产生自由基物种(用以活性化自由基聚合反应 )与布忍斯特酸或路以士酸(用以活性化阳离子聚 合反应)之第一类光聚合起始剂化合物,ii)由能够 产生自由基物种(系在光谱敏化剂之存在下进行可 见光线曝光之际,藉敏化剂之作用以进行随后之敏 化而活性化自由基聚合反应)之自由基光聚合起始 剂与能够产生布忍斯特酸或路以士酸(系在光谱敏 化剂之存在下进行可见光线曝光之际,藉敏化剂之 作用以进行随后之敏化而活性化阳离子聚合反应) 之阳离子光聚合起始剂之混合物组成之第二类光 聚合起始剂;以及 吸收可见光线、且将第一类光聚合起始剂或第二 类光聚合起始剂予以敏化之光谱敏化剂; 而且该脂族单体之混合量相对于100份重的热固性 双酚A型环氧寡聚物重量而言,是介于20-80份重之间 ;以及 附在光敏层上面之氧障壁层。7.一种制造体积型 相位全像图之方法,其步骤包括: 令光敏记录介质之光敏层予以全像曝露于可见光 线之光源中,以形成潜像; 对所得经曝光之光敏层直接在60-120℃之温度下热 处理1-38分钟即制得体积型相位全像图;该光敏记 录介质之组成包括: 基板; 在基板上面涂布由光敏记录材料组成之光敏溶液, 然后乾燥形成之光敏层;该光敏记录材料是由以下 各主要成分组成:能够进行阳离子聚合反应之可溶 于溶剂的热固性双酚A型环氧寡聚物、系如上式V 所示者,该热固性双酚A型环氧寡聚物之环氧当量 为400至6000.熔点为60℃或以上;至少具有一个乙烯 系不饱和键之脂族单体,该脂族单体在常温常压下 为液态,其在常压下的沸点在100℃或以上,并且能 够进行自由基聚合反应;从下述群中选出之光聚合 起始剂:i)在光谱敏化剂之存在下进行可见光线曝 光之际,藉敏化剂之作用以进行随后之敏化而能够 同时产生自由基物种(用以活性化自由基聚合反应 )与布忍斯特酸或路以士酸(用以活性化阳离子聚 合反应)之第一类光聚合起始剂化合物,ii)由能够 产生自由基物种(系在光谱敏化剂之存在下进行可 见光线曝光之际,藉敏化剂之作用以进行随后之敏 化而活性化自由基聚合反应)之自由基光聚合起始 剂与能够产生布忍斯特酸或路以士酸(系在光谱敏 化剂之存在下进行可见光线曝光之际,藉敏化剂之 作用以进行随后之敏化而活性化阳离子聚合反应) 之阳离子光聚合起始剂之混合物组成之第二类光 聚合起始剂;以及 吸收可见光线、且将第一类光聚合起始剂或第二 类光聚合起始剂予以敏化之光谱敏化剂; 而且该脂族单体之混合量相对于100份重的热固性 双酚A型环氧寡聚物重量而言,是介于20-80份重之间 ;以及 附在光敏层上面之氧障壁层。图式简单说明: 第一图A-第一图D所示为本发明光敏记录材料的反 应机构之示意图。 第二图所示为本发明光敏记录介质的构造之剖面 图。 第三图所示为全像图的照相程序中使用的双光束 光学系统之示意图。
地址 日本
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