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发明名称 ETCHING CHAMBER FOR SEMICONDUCTOR WAFER
摘要
申请公布号 KR200163027(Y1) 申请公布日期 1999.12.15
申请号 KR19970011916U 申请日期 1997.05.26
申请人 HYUNDAI MICRO ELECTRONICS CO.,LTD. 发明人 WHANG, CHANG-NO
分类号 H01L21/302;(IPC1-7):H01L21/302 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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