| 发明名称 | 用于化学机械抛光的多氧化剂浆料 | ||
| 摘要 | 一种包括脲和至少一种第二种氧化剂的化学机械抛光浆料前体。该组合物还非必要地包括一种有机酸和一种磨料。还公开了一种包括至少两种氧化剂及有机酸和一种磨料的抛光浆料，以及包括过氧化氢脲、第二种氧化剂和磨料的抛光浆料。进一步公开了由该前体制备抛光浆料的方法和用这里公开的组合物从基材中除去钛、氮化钛和铝合金层的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1238812A | 申请公布日期 | 1999.12.15 |
| 申请号 | CN97199945.7 | 申请日期 | 1997.09.23 |
| 申请人 | 卡伯特公司 | 发明人 | 弗拉斯塔·B·考夫曼;王淑敏 |
| 分类号 | C23F1/02;C09K13/03;C09K13/06;B44C1/22 | 主分类号 | C23F1/02 |
| 代理机构 | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人 | 巫肖南 |
| 主权项 | 1．一种化学机械抛光浆料组合物，包括：一种水介质；一种磨料；约0.2至约10.0重量％的第一种氧化剂；约0.5至约10.0重量％的第二种氧化剂；约0.5至约15.0重量％的至少一种有机酸，其中组合物的pH为约2.0至约8.0。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞州 | ||