发明名称 喷镀装置用电源装置
摘要 课题:系欲减低于喷镀装置上的连续性电弧放电之发生。解决之装置:系外加逆电压脉波(脉冲)于欲防止电弧放电之电路上,并在逆电压脉波外加终了后,由电弧放电检出装置(23)检出发生电弧放电之场合,乃于l~10〔μs〕以内将以逆电压产生装置(12)所产生的逆电压外加在溅射(喷镀)源,予以降低连续性电弧放电之产生机率,同时,依串联于溅射源(14)之二极体(D10),及与该二极体(D10)并联连接的电阻器(r10),予以限制逆电压外加时之电流,以减低由于逆方向电弧放电所生的连续性电弧放电。
申请公布号 TW376555 申请公布日期 1999.12.11
申请号 TW087102433 申请日期 1998.02.20
申请人 芝浦制作所股份有限公司 发明人 栗山昇;谷津丰;川又由雄;藤井崇
分类号 H01L21/363 主分类号 H01L21/363
代理机构 代理人 恽轶群
主权项 1.一种喷镀装置用电源装置,系在接地之真空槽内,将不活性气体予以导入,并在配置于该真空槽内的溅射源外加负之电压,而进行喷镀(喷溅镀膜)之喷镀装置,其构成特征在于包含有:一直流电源,系欲外加直流电压于上述溅射源;一逆电压产生装置,系欲使在上述喷镀中所产生的电弧放电之发生,予以停止,乃在上述溅射源外加逆电压;一交换装置,系将上述逆电压产生装置所产生之逆电压,外加于上述溅射源;一电弧放电检出装置,系欲检出上述真空槽内之电弧放电之产生;一逆电压外加装置,系由上述电弧放电检出装置,检出有电弧放电产生的场合,乃将上述交换装置设定时间为ON,并欲将从上述逆电压产生装置,即产生的逆电压外加于上述溅射源;以及一逆电压外加控制装置,系由上述电弧放电检出装置,检出有上述电弧放电产生之场合,乃将上述逆电压产生装置,即产生的逆电压,于设定时间,外加在上述溅射源,当该外加终了后,利用上述电弧放电检出装置,再度检出有电弧放电产生之场合,在1-10[s]以内,将于上述逆电压产生装置所产生之逆电压,外加于上述溅射源。2.如申请专利范围第1项之喷镀装置用电源装置,其中,于其构成上设有逆方向电弧放电防止电路,而其特征在于包含有:一顺方向阻抗,系顺着予以流通喷镀放电之电流的方向,连接在上述逆电压产生装置,与上述溅射源之间;以及一逆方向阻抗,系比上述顺方向阻抗之阻抗値为大,并以并联连接,而欲防止逆方向之电弧放电之产生。3.如申请专利范围第2项之喷镀装置用电源装置,其中,上述逆方向电弧放电防止电路,顺方向阻抗系由二极体所构成;而,逆方向阻抗系由电阻器所构成。4.如申请专利范围第2项之喷镀装置用电源装置,其中,在上述逆方向电弧放电防止电路之溅射源侧与上述直流电源之正极侧之间,连接二极体,而使电流从该二极体之阳极侧,向着上述直流电源之正极侧流通;以及,将电阻器以串联连接在上述第2二极体。5.如申请专利范围第1.2.3或4项之喷镀装置用电源装置,其中,上述逆电压产生装置系在其一次侧,连接上述直流电源,而上述溅射源系连接在其二次侧之脉波变压器,又,该脉波变压器之一次与二次绕线比为1:1.1-1:1.3。6.如申请专利范围第1.2.3或4项之喷镀装置用电源装置,其中,上述逆电压产生装置系将上述直流电源连接在其一次侧,而上述溅射源系连接在其二次侧之自耦变压器,又,该自耦变压器之一次与二次绕线比为1:1.1-1:1.3。7.如申请专利范围第2.3或4项之喷镀装置用电源装置,其中,利用上述逆方向电弧放电防止电路,而消除在上述真空槽内产生2脉波以上的连续电弧放电;且,将上述逆电压产生装置之变压器的电压,时间积,设为4脉冲份以上,藉此,使上述变压器不发生磁场饱和。8.如申请专利范围第5项之喷镀装置用电源装置,其中,利用上述逆方向电弧放电防止电路,而消除在上述真空槽内产生2脉波以上的连续电弧放电;且,将上述逆电压产生装置之变压器的电压时间积,设为4脉冲份以上,藉此,使上述变压器不发生磁场饱和。9.如申请专利范围第6项之喷镀装置用电源装置,其中,利用上述逆方向电弧放电防止电路,而消除在上述真空槽内产生2脉波以上的连续电弧放电;且,将上述逆电压产生装置之变压器的电压,时间积,设为4脉冲份以上,藉此,使上述变压器不发生磁场饱和。图式简单说明:第一图系表示有关本发明第1实施态样的喷镀装置用电源装置之电路图。第二图A至第二图F系欲说明本发明申请专利范围的各个动作之定时(应时)图案。第三图系表示有关本发明第2实施态样的喷镀装置用电源装置之电路图。第四图系表示有关本发明第3实施态样的喷镀装置用电源装置之电路图。
地址 日本