| 主权项 |
1.一种薄膜壳(2)用之支撑装置,该薄膜壳系由铁磁材料制成并放置在一平面的基体(6)上,其中基体是在至少设有窗口(3)之薄膜壳及至少一永久磁铁(8)之间,而永久磁铁则固定在框架(7)内,其特征为:薄膜壳(2)是靠接在基体支撑板(1)上,薄膜壳之窗口面积大于薄膜面积,永久磁铁(8)则位于框架之凹处中且未与基体之背面接触。2.如申请专利范围第1项之装置,其中薄膜具有条形之包括窗口的边缘面,亦可能具有腹板面,各永久磁铁仅配置在基体之与薄膜侧面相对之背面上的边缘面及/或腹板面之范围内。3.如申请专利范围第2项之装置,其中薄膜壳(2)在基体支撑板(1)上之位置是利用基体支撑板(1)内之两个定位销(10)而以接合方式固定在薄膜壳(2)内之两个相对应之内隙(11,12)中。4.如申请专利范围第3项之装置,其中两个定位销(10)及相对应之内隙(11,12)是配置在窗口(3)之边缘范围内之相同侧面上以便在基体支撑板(1)上调整薄膜壳(2)。5.如申请专利范围第3项之装置,其中两个定位销(10)及相对应之内隙(11,12)是固定在窗口(3)之边缘范围内之相对侧面上以便在基体支撑板(1)上调整薄膜壳(2)。6.如申请专利范围第3项之装置,其中两内隙(11)中之一构成钻孔以便在基体支撑板(1)上调整薄膜壳(2),而另一内隙则构成长方形孔(12),因而该长方形孔之纵轴线是平行于两定位销(10)之连接线(13)而延伸。7.如申请专利范围第1项之装置,其中在基体支撑板(1)之边缘上形成一种在基体支撑板(1)及薄膜壳(2)间之暂时可拆卸之连接且此种连接是利用各永久磁铁而形或,各永久磁铁是装配在基体支撑板(1)内并可拆卸且各磁铁之磁通(Magnetic fluX)可贯穿该薄膜。8.如申请专利范围第1项之装置,其中磁铁支承框架(7)在基体支撑板(1)上之位置是利用基体支撑板(1)内之两个定位销(10)而以接合方式固定在磁铁支承框架(7)内之相对应之内隙(15,16)中。9.如申请专利范围第8项之装置,其中两个定位销(14)是配置在基体支撑板(1)上以便调整磁铁支承框架(7),相对应之内隙(15,16)则配置在窗口(3)之边缘范围内之相同侧面上或配置在一腹板(5)上或配置在薄膜壳之窗口(3)的边缘范围内之互相对置之侧面上。10.如申请专利范围第8项之装置,其中两个内隙中之一个内隙(15)构成钻孔以便在基体支撑板(1)上调整磁铁支承框架(7),而另一个内隙则构成长方形孔(16),因而该长方形孔之纵轴线是平行于两个定位螺栓(14)之连接线(17)而延伸。图式简单说明:第一图:具有薄膜壳,基体及磁铁支撑架之基体支座。第二图A:为第一图之剖面A-A。第二图B:为第一图之剖面B-B。第二图C:为第一图之剖面C-C。圆磁铁是藉开槽夹环及埋头螺钉之助而被固定。第二图D:为第二图A之俯视图,薄膜壳固定在长方形孔之范围内。第二图E:为第二图A之俯视图,薄膜壳被固定在钻孔之范围内。第三图A:薄膜壳在窗口之相同侧面上之定位销及内隙(或凹陷)之配置方式。第三图B,第三图C:薄膜壳在窗口之对立侧面上之定位销及内隙之配置方式。 |
