| 发明名称 |
ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH11340130(A) |
申请公布日期 |
1999.12.10 |
| 申请号 |
JP19980149045 |
申请日期 |
1998.05.29 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
KAWANO HAJIME;WAKITA MINORU;KAMATA MASATO;YODA HARUO |
| 分类号 |
G03F7/20;H01J37/153;H01J37/302;H01J37/305;H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
