| 发明名称 |
CLEANING LIQUID FOR SEMICONDUCTOR DEVICE AND PRODUCING METHOD THERE FOR USING THE SAME |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH11340183(A) |
申请公布日期 |
1999.12.10 |
| 申请号 |
JP19980164296 |
申请日期 |
1998.05.27 |
| 申请人 |
MORITA KAGAKU KOGYO KK;TEXAS INSTR JAPAN LTD |
发明人 |
MIYAMOTO MITSUO;OSADA TOSHIAKI;ISHIDA SHOICHI;SAKAMOTO HITOSHI;TATENO TOSHIO;GOTO HIDETO;AOYANAGI SATOSHI |
| 分类号 |
H01L21/3213;H01L21/304;H01L21/308;(IPC1-7):H01L21/304;H01L21/321 |
主分类号 |
H01L21/3213 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
