发明名称 | 轧制铜箔及其制造方法 | ||
摘要 | 在不牺牲其它特性的情况下,本发明改善了现有轧制铜箔的抗弯曲性。一种优良抗弯曲性的具有立方织构的轧制铜箔,使得在对其进行200℃下的热处理达30分钟成为再结晶的结构的状态下,由X射线衍射确定的轧制表面的200面强度(Ⅰ)对于微铜粉200面的X射线衍射强度(Io)有I/Io>20的关系。一种制造轧制铜箔的方法,包括热轧制铜锭块,交替重复冷轧和退火,最后冷轧工件到厚度不超过50μm,在最后冷轧前立即进行的退火是在能使退火的再结晶晶粒具有5到20μm之间的平均晶粒尺寸和确保最后冷轧的压下率设定为不小于90%的条件下实现的。 | ||
申请公布号 | CN1237489A | 申请公布日期 | 1999.12.08 |
申请号 | CN99106094.6 | 申请日期 | 1999.03.31 |
申请人 | 日矿金属株式会社 | 发明人 | 波多野隆昭 |
分类号 | B21B1/40 | 主分类号 | B21B1/40 |
代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 林蕴和 |
主权项 | 1 一种轧制铜箔,具有优良的抗弯曲性,其立方织构的特征使得:在对其进行200℃下的热处理达30分钟成为再结晶的结构的状态下,由X射线衍射确定的轧制表面的200面强度(I)对于微铜粉200面的X射线衍射强度(Io)有I/Io>20的关系。 | ||
地址 | 日本东京 |