发明名称 亚微米光刻机的调焦装置
摘要 亚微米光刻机调焦装置,属于光刻机自动调焦和光学探测技术领域。其特征为:标记的成像光经被刻物体、小物镜、反射镜,由分光镜分为两种,一路反射成像于四象限接收器,另一路透射经柱面镜成像于CCD图象传感器,两路输出离焦信号和目标偏置量送入单片机,控制压电陶瓷推动柔性铰链,带动被刻物体作大位移或微位移移动,达到目标焦面位置。具有调焦惯量小,速度快,范围大,精度高(优于0.1微米),可编程的特点。
申请公布号 CN2352976Y 申请公布日期 1999.12.08
申请号 CN98229444.1 申请日期 1998.09.03
申请人 中国科学院光电技术研究所 发明人 陈旭南;胡松;李东
分类号 G03F7/207 主分类号 G03F7/207
代理机构 中国科学院成都专利事务所 代理人 张一红;孙媛璞
主权项 1、亚微米光刻机的调焦装置,照明光从光纤(6)射出,经聚光透镜(7)、标记(8)、反射镜(9)和小物镜(10)成像于被刻物体(1)上,光线经被刻物体(1)、小物镜(12)、反射镜(13)后,由四象限接收器(15)接收,其输出的离焦信号经信号放大处理(18)和A/D转换器(19)送入单片机(20),由光刻机控制驱动工作台(5)与承片台(2)之间的调焦执行机构动作,调整承片台(2)上的被刻物体(1)处于主机物镜(11)要求的目标焦面位置,其特征在于:标记(8)的成像光经被刻物体(1)、小物镜(12)、反射镜(13),再由分光镜(14)分为两路,一路反射光束成像于四象限接收器(15)上,另一路透射光束成像于CCD图象传感器(17)上,两路输出离焦信号经信号处理后都送入单片机(20),根据需要加入的目标偏置量,由主计算机(24)和单片机(20)自动控制压电陶瓷(4)分别作大位移或微位移移动,从而推动柔性铰链(3)两臂绕下端转动,带动被刻物体(1)作上下平动,达到主机物镜(11)要求的目标焦面精确位置。
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