发明名称 CLEANING FLUID AND CLEANING METHOD FOR COMPONENT OF SEMICONDUCTOR-TREATING APPARATUS
摘要 <p>L'invention concerne un fluide de lavage qui est utilisé pour retirer un dépôt de produit secondaire provenant de produits de la décomposition d'un gaz de traitement, à base de carbone et de fluor, d'un composant d'un appareil de traitement de semi-conducteurs. Ce détergent comprend 75 % en poids de N-méthyl-2-pyrrolidone, 15 % en poids d'éthylène glycole monobutyle éther, 0,5 % en poids de tensio-actif, et 9,5 % en poids d'eau. Il est régulé de manière à présenter une teneur en métal alcalin inférieure à 10 parties par milliard.</p>
申请公布号 WO1999061573(P1) 申请公布日期 1999.12.02
申请号 JP1999002745 申请日期 1999.05.25
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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