发明名称 用于化学气相沈积装置和蚀刻装置之气体回收单元和方法
摘要 设有一CVD装置,其配设一气体导入部A3,内具一惰性气体供给部Gl来供给一稀释用惰性气体,与一净化气体供路G2来供给净化气体,各与CVD装置相连,并且配设一废气排放部来释放废氧;一废气循环部D1用于循环来自该CVD装置之废气,一冷却部D4用于冷却并液化废气中之净化气体,而一回收部4用于回收在该冷却部中已液化之净化气体;该稀释用惰性气体包含有一种沸点低于净化气体之气体;一供气部6用于供给一种所具成份相同于该液态状之稀释用惰性气体之气体,一惰性气体循环部D3(其可以为冷却用惰性气体之蒸发之热量所冷却),以及一用于排放在惰性气体循环部D3中所蒸发之冷却用惰性气体的惰性气体排放部7,构成该冷却部;而且惰性气体排放部7连接惰性气体供路Gl。
申请公布号 TW375658 申请公布日期 1999.12.01
申请号 TW085108759 申请日期 1996.07.17
申请人 地山股份有限公司 发明人 野槷茂良;富田慎二
分类号 C23C14/22 主分类号 C23C14/22
代理机构 代理人 林镒珠
主权项 1.一种气体回收单元,包含有:一CVD装置(A),其包括一气体导入部(A3)、一用于供给稀释用惰性气体之惰性气体供路(G1)、一用于供给净化气体之净化气体供路(G2)、以及一用于自该CVD装置中排出废气之废气排放供路(A4);一循环装置本体(D),其与该CVD装置相连通,该循环装置本体包括有:一废气循环部(D1),用于循环来自该CVD装置之废气;一冷却部(D4),用于冷却与液化任何残留在该废气中之净化气体;以及一回收部(4),用于回收在该冷却部中所液化之净化气体;以及一气体循环供路,用于将该回收部中所回收之该净化气体供给至该气体导入部。2.一种气体回收单元,包含有:一蚀刻装置(A),其包括一气体导入部(A3)、一用于供给稀释用惰性气体之惰性气体供路(G1)、一用于供给蚀刻气体之蚀刻气体供路(G2)、以及一用于自该蚀刻装置中排出废气之废气排放供路(A4);一循环装置本体(D),其与该蚀刻装置相连通,该循环装置本体包括有:一废气循环部(D1),用于循环来自该蚀刻装置之废气;一冷却部(D4),用于冷却与液化任何残留在该废气中之蚀刻气体;以及一回收部(4),用于回收在该冷却部中所液化之蚀刻气体;以及一气体循环供路,用于将该回收部中所回收之该蚀刻气体供给至该气体导入部。3.如申请专利范围第1项所述之气体回收单元,其中该稀释用惰性气体含有一种沸点低于该净化气体或蚀列气体之气体;该单元进一步包含有:一供气部(D),用于供给呈液态状而且所具成份相同于该稀释用惰性气体的冷却用惰性气体、一惰性气体循环部(D3),其能藉由该冷却用惰性气体之蒸发之热量而加以冷却、以及一惰性气体排放部(7),用于排放在该惰性气体循环部中所蒸发之该冷却用惰性气体;而且该惰性气体排放部连接该惰性气体供路。4.如申请专利范围第1项所述之气体回收单元,其中该净化气体包含有一种选自三氟化氮(NF3)、六氟乙烷(C2F6)、三氟化氯(ClF3)、四氟化碳(CF4)、三氟甲烷(CHF3)、六氟化硫(SF6)、氯化氢(HCl)、氟气(F2)、以及氯气(Cl2)之气体。5.如申请专利范围第1项所述之气体回收单元,其中该稀释用惰性气体为氮气。6.如申请专利范围第2项所述之气体回收单元,其中该稀释用惰性气体含有一种沸点低于该净化气体或蚀刻气体之气体;该单元进一步包含有:一供气部(D),用于供给呈液态状而且所具成份相同于该稀释用惰性气体的冷却用惰性气体、一惰性气体循环部(D3),其能藉由该冷却用惰性气体之蒸发之热量而加以冷却、以及一惰性气体排放部(7),用于排放在该惰性气体循环部中所蒸发之该冷却用惰性气体;而且该惰性气体排放部连接该惰性气体供路。7.如申请专利范围第2项所述之气体回收单元,其中该蚀刻气体包含有一种选自三氟化氮(NF3)、六氟乙烷(C2F6)、三氟化氯(ClF3)、四氟化碳(CF4)、三氟甲烷(CHF3)、六氟化硫(SF6)、氯化氢(HCl)、氟气(F2)、以及氯气(Cl2)之气体。8.如申请专利范围第2项所述之气体回收单元,其中该稀释用惰性气体为氮气。9.一种用于循环使用在一处理室(A1)内之处理气体之方法,包含下列步骤:(a)在一处理室内使用一种处理气体,来施行该处理室或一基底蚀刻之净化;(b)自该处理室排出该处理气体;(c)藉由冷却该处理气体至低于该处理气体之沸点之温度,液化该排出之处理气体,以产生被液化之循环处理气体(G2);以及(d)将该循环处理气体导入该处理室。10.如申请专利范围第9项所述之用于循环处理气体之方法,其中该处理气体为一种净化气体而该处理室为一个CVD装置(A)。11.如申请专利范围第9项所述之用于循环处理气体之方法,其中该处理气体为一种蚀刻气体而该处理室为一个蚀刻装置(A)。12.如申请专利范围第9项所述之用于循环处理气体之方法,其进一步包括有如下步骤:在排放该处理气体之该步骤后过滤(B)该处理气体,以自该处理气体中滤去各固体物质。13.如申请专利范围第9项所述之用于循环处理气体之方法,其进一步包括有如下之步骤:自该处理气体中吸附(C)并除去所具沸点高于该处理气体之其他气体,该吸附及除去步骤在该排放步骤之后。14.如申请专利范围第9项所述之用于循环处理气体之方法,其进一步包括有如下之步骤:精馏该已液化之循环处理气体,以产出大致纯净之处理气体,该精馏步骤出现在该液化步骤之后。15.如申请专利范围第9项所述之用于循环处理气体之方法,其中液化步骤进一步包括有如下之步骤:将该排出之处理气体处置成与一液态之第二气体发生热传导交换,该第二气体所具之沸点温度低于该处理气体,以冷却该排出之处理气体至低于该处理气体之该沸点温度之温度。16.如申请专利范围第15项所述之用于循环处理气体之方法,其中该第二气体为惰性气体。17.如申请专利范围第16项所述之用于循环处理气体之方法,其进一步包括有如下之步骤:将该第二气体与该已循环之处理气体相混合,该混合步骤在该导入步骤之前。18.如申请专利范围第16项所述之用于循环处理气体之方法,其进一步包括有如下之步骤:将该第二气体与该已循环之处理气体相混合,该混合步骤出现在将该排出之处理气体处置成与该第二气体发生热传导交换之该步骤之后。图式简单说明:第一图系本发明气体循环单元之示意图;第二图系另一实施例之气体循环单元之示意图。
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