发明名称 彩色液晶显示装置及其制造方法
摘要 一种具备藉由热转印方式所形成三原色着色层的彩色滤光片之液晶显示装置,以由形成于透明基板上之黑色矩阵BM,至少被着色成三原色而且以热转印方式之着色层FIL,填充于着色图型间之防染色领域,在着色层上形成之透明保护膜层PSV2,及形成于保护膜层上之透明电极ITO2所形成之彩色滤光器做为构成要素,防染色领域系由未被着色之被染着层之部分FIL(T),保护膜PSV2,PSV3或耐热性高之黑色矩阵所构成:可防止热转印方式之缺点之因热而造成之着色层之染料之扩散及昇华,可提高耐热性。因为使用染料,故其光学特性优于使用颜料之系统,又因为可同时形成着色层,故可抑制上下基板间之间隙不平均于最小限度,可抑制液晶元件内之对比等光学特性之不平均。可实现以大幅度简化之过程制造,以可靠性高之彩色滤光片为构成要素之彩色液晶显示装置。
申请公布号 TW375684 申请公布日期 1999.12.01
申请号 TW084102571 申请日期 1995.03.17
申请人 日立制作所股份有限公司 发明人 松山茂;富田好文
分类号 G02F1/13;G02F1/1335 主分类号 G02F1/13
代理机构 代理人 林志刚
主权项 1.一种彩色液晶显示装置,其特征为包括:形成于透 明基板上之黑色矩阵;以热转印方式着色于三原色 图型状之着色层;填充各颜色图型之间隙之防染色 领域;又形成于着色层及防染色领域上之透明保护 膜层;及形成于保护膜层上之透明电极。2.一种彩 色液晶显示装置,其特征为包括:形成于透明基板 上之黑色矩阵;以热转印方式着色,各像素或各颜 色之三原色之图型间具有间隙而被分隔成领域形 成之着色层;披覆在三原色图型上,而且填充三原 色图型之间隙之透明保护膜层;及形成于保护膜层 上之透明电极。3.如申请专利范围第2项之装置,其 中透明保护膜层系由做为防染色领域披覆于三原 色图型上及其间隙之透明之无机质或架桥密度高 之丙烯系有机薄膜,及其上部之环氧基系热硬化性 树脂之双重构造所构成。4.如申请专利范围第1,2 或3项之装置,其中由三原色所构成之着色层之端 部重叠于黑色矩阵形成。5.一种彩色液晶显示装 置,其特征为包括:形成于透明基板上之黑色矩阵; 以热转印方式着色成三原色之各像素或各颜色之 三原色图型填充于黑色矩阵图型之间隙而形成之 着色层;又形成于黑色矩阵与着色层上之透明保护 膜层;及形成于保护膜层上之透明电极。6.如申请 专利范围第5项之装置,其中三原色图型之着色层 膜厚与黑色矩阵之膜厚之差为0.5m以下。7.如申 请专利范围第1,2,3,5或6项之装置,其中由三原色所 构成之着色层中,各三原色由黄色,紫红色,青蓝色 之一组,或红色,绿色,蓝色之一组所形成。8.一种 彩色液晶显示装置之制造方法,其特征为:在透明 基板上预先以含有穿透系数低之材料之高分子材 料形成黑色矩阵,然后涂敷由负型感光性树脂所构 成之透明被染着层,利用黑色矩阵之图型以背面曝 光使被染着层感光,利用显像形成对应于三原色之 图型,然后,以热转印方式将图型着色成三原色,然 后于着色层及黑色矩阵上形成透明保护膜层及透 明电极。9.一种彩色液晶显示装置之制造方法,其 特征为:在透明基板上于各像素或各颜色保持间隙 分割形成被染着层之图型之领域,再以热转印方式 将图型着色成三原色,然后涂敷包含穿透系数低之 材料之高分子材料,以来自透明基板侧之背面曝光 使填充着色层图型之间隙之高分子材料硬化,利用 显像形成黑色矩阵之图型,然后在着色层与黑色矩 阵上形成透明保护膜层及透明电极。图式简单说 明: 第一图为本发明彩色滤光片构造之实施例之要部 断面图; 第二图为本发明之彩色滤光片构造之实施例之要 部断面图; 第三图为本发明之彩色滤光片构造之实施例之要 部断面图; 第四图为本发明之彩色滤光片构造之实施例之要 部断面图; 第五图为本发明之彩色滤光片构造之实施例之要 部断面图; 第六图为用来说明本发明之彩色滤光片之制造过 程之要部断面图; 第七图为用来说明本发明之彩色滤光片之制造过 程之要部断面图; 第八图为用来说明本发明之彩色滤光片之制造过 程之要部断面图; 第九图为用来说明本发明之彩色滤光片之制造过 程之要部断面图; 第十图为主动位址液晶显示元件之要部断面图; 第十一图为表示习用之彩色滤光片之制造方法例 之过程图; 第十二图为利用习用制造方法制作之彩色滤光片 之要部断面图; 第十三图系表示习用之热转印方式之制造过程之 一例之过程图与制造装置之一例之图。
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