| 发明名称 |
METHOD FOR CONTACT FORMATION OF SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11330245(A) |
申请公布日期 |
1999.11.30 |
| 申请号 |
JP19990095351 |
申请日期 |
1999.04.01 |
| 申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD |
发明人 |
SHIN YUTETSU |
| 分类号 |
H01L21/28;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/768 |
主分类号 |
H01L21/28 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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