| 摘要 |
<p>본 발명은 알칼리가용성기를 갖는, 피막형성성의, 염기성수용액에 가용인 중합체와, 알릴알콜구조를 가진 화합물과, 결상용방사선을 흡수하여 분해되어 상기 알릴알콜구조를 가진 화합물이 상기 알칼리가용성기의 보호기로 되도록 작용하는 광산발생제를 포함하고, 염기성수용액에 가용인 것을 특징으로 하는, 염기성수용액으로 현상가능한 네거티브형 레지스트조성물, 및 이것을 채용한 레지스트패턴 형성방법에 관한 것이다. 상기 현상액으로 염기성수용액을 사용할 수 있고, 실용가능한 감도를 갖고, 팽윤이 없는 복잡한 패턴을 형성할 수 있다.</p> |
