发明名称 Lapping method and method for manufacturing lapping particles for use in the lapping method
摘要 <p>본 발명은 피래핑 물질을 래핑하기 위한 방법에 관한 것으로서, 이 방법에서는 회전하는 래핑 크로쓰의 표면과 접촉하는 물질이 제공되며, 또한 래핑입자들을 수용하는 래핑작용제가 사용된다. 래핑입자들은 피래핑 물질의 경도와 동일하거나 동등한 경도를 갖는다. 경도는 래핑입자들의 농도를 조절하므로써 조절된다. 또한 래핑방법에서 사용하기 위한 래핑입자들을 제조하기 위한 방법이 제공되며, 이 방법에서는 실란과 산소가 원하는 농도를 갖는 다공성 실리카 입자들을 발생시키기 위해 기체상태로 주입된다.</p>
申请公布号 KR19990082783(A) 申请公布日期 1999.11.25
申请号 KR19990010922 申请日期 1999.03.30
申请人 null, null 发明人 기쿠타구니코
分类号 B24B37/00;B24B37/04;C01B33/12;C09K3/14;H01L21/306 主分类号 B24B37/00
代理机构 代理人
主权项
地址