PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD USING THE SAME
摘要
<p>투영노광장치는, 패턴을 가지는 레티클을 광원으로부터 공급된 조명광으로 조명하는 조명광학계와, 조명광을 사용해서 패턴을 기판위로 투영하는 투영광학계와, 조명광의 각도분포를 측정하는 측정계와, 측정계에 의한 측정에 의거하여 또한 광축으로부터의 거리에 따라서, 투영광학계에 입사하는 조명광의 각도분포를 변화시키는 조정계를 구비한다.</p>
