| 摘要 |
<p>본 발명의 액정 변환기 화소셀은 셀의 상, 하부판을 분리시키는 서포트 필라(support pillars)를 구비하며, 화소셀을 형성하는 공정에서, 화소 전극의 형성에 앞서 서포트 필라가 먼저 형성된다. 이러한 공정의 흐름은 화소 전극의 상면에 두꺼운 유전체층을 도포해야 하는 필요성을 미연에 방지해 준다. 또한 이러한 공정의 흐름은 후속 공정 동안 식각에 화소 전극의 표면이 노출되는 것을 방지해 주며, 화소셀 전극의 반사율을 유지시켜 준다. 즉, 본 발명에 따른 공정 흐름의 순서에 따라 화소 전극층에 형성되는 협소한 호 상에서 보다는 오히려 상부의 평평한 끼움 금속 유전체상에 서포트 필라를 형성함으로써, 서포트 필라 내의 키홀 보이드의 생성을 막을 수 있게 된다</p> |
