发明名称 SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
摘要 <p>강유전체 박막 캐패시터를 메모리 캐패시터로서 이용하는 반도체 메모리 소자에 있어서, 고품질이고 제조 수율이 높은 반도체 메모리 소자를 실현한다. 강유전체 박막 캐패시터를 메모리 캐패시터로서 이용하는 반도체 메모리 소자에 있어서, 캐패시터 중의 강유전체 박막의 결정 입자 직경의 상대 표준 편차를 13% 이하로 함으로써, 높은 잔류 분극값이나 작은 막 피로 (큰 재기록 기능 횟수)를 얻는 것을 가능하게 하여, 고품질로 제조 수율이 높은 반도체 메모리 소자를 실현한다.</p>
申请公布号 KR19990083104(A) 申请公布日期 1999.11.25
申请号 KR19990012616 申请日期 1999.04.09
申请人 null, null 发明人 스에나가가즈후미;오가따기요시;호리꼬시가즈히꼬;다나까쥰;가또히사유끼;요시즈미게이이찌;아베히사히꼬
分类号 G11C11/22;H01L21/02;H01L21/316 主分类号 G11C11/22
代理机构 代理人
主权项
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