发明名称 Lamp Annealing And Method For Annealing Semiconductor Wafer
摘要 <p>본 발명은 제품웨이퍼를 열처리하기 위한 램프어닐링장치를 제공한다. 그 램프어닐링장치은 열처리를 할 제품웨이퍼 또는 더미웨이퍼를 장전하기 위한 제 1 챔버, 제 1 챔버에 인접배치되고 더미웨이퍼 만을 장전하기 위한 제 2 챔버, 제 1 챔버 내의 웨이퍼의 온도와 제 2 챔버 내의 웨이퍼의 온도를 측정하기 위한 파이로미터 수단, 및 제 1 챔버 내의 웨이퍼와 제 2 챔버 내의 웨이퍼를 가열하기 위한 램프 수단으로 이루어진다. 주기적으로, 더미웨이퍼가 제품웨이퍼를 대체하여 제 1 챔버 내에 장전되고, 동시에 더미웨이퍼가 제 2 챔버 내에 장전된다. 더미웨이퍼 양쪽 모두는 램프 수단에 의해 동시에 가열되고, 제 1 챔버 내의 더미웨이퍼의 온도와 제 2 챔버 내의 더미웨이퍼의 온도는 파이로미터 수단에 의해 측정된다. 파이로미터 수단에 의해 측정된 제 1 챔버 내의 더미웨이퍼의 온도와 제 2 챔버 내의 더미웨이퍼의 온도의 차이가 검출되고, 제 1 챔버내의 제품웨이퍼가 램프 수단에 의해 열처리된다.</p>
申请公布号 KR19990082844(A) 申请公布日期 1999.11.25
申请号 KR19990011460 申请日期 1999.04.01
申请人 null, null 发明人 쓰까모또마사유끼
分类号 H01L21/26;C30B31/12 主分类号 H01L21/26
代理机构 代理人
主权项
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