| 发明名称 |
LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS |
| 摘要 |
주사 타입의 전사장치에 있어서, 주사의 초기에 레티클 마스킹 블레이드(7)가 개방된다. 레티클 마스킹 블레이드가 개방됨에 따라 증가하는 조명 광선의 조도 밀도를 보상하는 수단이 제공된다. 이들 수단은 램프 조도에서 보상 감소를 제어하는 램프 제어수단(10)을 포함할 수 있다. 레티클 마스킹 블레이드에 의해 차단되는 조명 광선의 부분이 내부로 완전히 반사되도록 레티클 마스킹 블레이드(7)는 예를 들면 석영으로 제작될 수 있고, 알루미늄으로 된 반사성 코팅이 후면부에 제공될 수 있다. |
| 申请公布号 |
KR19990083135(A) |
申请公布日期 |
1999.11.25 |
| 申请号 |
KR19990012818 |
申请日期 |
1999.04.12 |
| 申请人 |
에이에스엠 리소그라피 비.브이. |
发明人 |
반데르레이시베아브라함하트만;드리우라드윌렘;본네마게리트마르텐;코르베이윌헬무스마리아 |
| 分类号 |
H01L21/027;G03F7/20;G03F7/23 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
