| 发明名称 | 用于半导体器件或液晶器件生产过程的清洁剂 | ||
| 摘要 | 本发明的清洁剂包含作为活性成分的由正磷酸和脲反应产生的多磷酸－脲缩合物或磷酸－脲聚合物。这种清洁剂用于半导体器件生产过程或液晶器件生产过程中至少一步中的金属表面和/或玻璃表面的清洁。根据本发明,可以在高的环境和工作安全性条件下,有效地清洁金属(包括半金属)和玻璃表面的蚀刻残余物及杂质,而且不会引起金属腐蚀的问题。 | ||
| 申请公布号 | CN1236482A | 申请公布日期 | 1999.11.24 |
| 申请号 | CN98801111.5 | 申请日期 | 1998.08.04 |
| 申请人 | 岸本产业株式会社;大塚化学株式会社 | 发明人 | 矢田隆司;肥沼丰;福村和则;福村嘉仁 |
| 分类号 | H01L21/304 | 主分类号 | H01L21/304 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 杜京英 |
| 主权项 | 1．一种用于半导体器件生产过程或液晶器件生产过程的清洁剂，它包含作为活性成分的由正磷酸和脲反应得到的多磷酸-脲缩合物或磷酸-脲聚合物。 | ||
| 地址 | 日本大阪 | ||