发明名称 吡唑并吡啶化合物、含有它们的药物组合物、及其制法与用途
摘要 本发明涉及一种化学式如下的可作为药物使用的新的吡唑并吡啶化合物及其可药用的盐,制备该吡唑并吡啶化合物或其盐的方法,含有该吡唑并吡啶化合物或其可药用盐的药物组合物等,式中R<SUP>1</SUP>是芳基,R<SUP>2</SUP>是可以有一个可多个合适的取代基的环(低级)烷基。
申请公布号 CN1046724C 申请公布日期 1999.11.24
申请号 CN94194724.6 申请日期 1994.12.26
申请人 藤泽药品工业株式会社 发明人 赤羽厚;西村伸太郎;井谷弘道;K·P·M·德金
分类号 C07D471/04;A61K31/50 主分类号 C07D471/04
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 关立新;王景朝
主权项 1.一种化学式如下的吡唑并吡啶化合物及其可药用的盐:<img file="C9419472400021.GIF" wi="305" he="341" />其中R<sup>1</sup>是芳基,和R<sup>2</sup>是可以有1到3个合适取代基的环低级烷基,这些取代基选自氧代,低级亚烷二氧基,羟基,酰氧基,三低级烷基甲硅烷氧基,羟基低级烷基,酰基,低级烷基,低级亚烷基,酰基低级烷基,酰基低级亚烷基,氰基,氰基低级烷基、氰基低级亚烷基,被可以有1到4个低级烷基的四唑基取代的低级亚烷基,被可以有1到4个低级烷基的二氢噁嗪基取代的低级亚烷基,羟基亚氨基,低级烷氧亚氨基,酰基低级烷氧亚氨基和酰氧基亚氨基;可以有1到3个合适取代基的环低级烯基,这些取代基选自:氧代,低级亚烷二氧基,羟基,酰氧基,三低级烷基甲硅烷氧基,羟基低级烷基,酰基,低级烷基,低级亚烷基,酰基低级烷基,酰基低级亚烷基,氰基,氰基低级烷基,氰基低级亚烷基,被可以有1到4个低级烷基的四唑基取代的低级亚烷基,被可以有1到4个低级烷基的二氢噁嗪基取代的低级亚烷基,羟基亚氨基,低级烷氧亚氨基,酰基低级烷氧亚氨基和酰氧亚氨基;被芳基和酰基取代的低级烷基;可以具有1-3个合适取代基的芳基,所述取代基选自羟基、氧代、低级烷氧基和酰基低级烷氧基;吡咯烷基,哌啶基,四氢嘧啶基,全氢化呋喃基,或全氢化苯并呋喃基,所述每一基团均可以具有1-4个合适的取代基,所述取代基选自氧代、羟基、低级烷基,酰基和酰基低级烷基。
地址 日本大阪府大阪市