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Procedimiento para la purificación posterior reductiva de textiles tenidos o estampados conteniendo poliéster, en el cual se adiciona al banode tintura o al bano de lavado como productos de tratamiento posterior, una mezcla que contienecomo componentes: a) como mínimo, un compuesto de lafórmula (I): Am((CR1R2)mSO2M)p.q (I), donde A es NR3(3-q) o OR4(2-p); R1, R2, R4 son hidrógeno C1-C6-alquilo; R3 representa radicales idénticos o diferentesseleccionados del grupo hidrógeno,C1-C2 0-alquilo, C3-C8-cicloalquilo eventualmente sustituido por uno a tres radicales C1-C4-alquilo; M es elequivalente de un ión amonio, alcalino o alcalinotérreo; m es 0 o 1; p es 1 o 2; q es 1, 2 o 3; siendo al menos uno de losradicales R1, R2, R4 un alquilocon 1 a 6 átomos de carbono, cuando A es OR4(2-p), y adoptando, para el caso de que m sea igual a 0, p, q el valor 2, y el compuesto de la fórmula (I) enmezcla con una cantidad de una mezcla de aceptor de ácido quesea suficiente para aumentar el valor pH del bano de tintura o del bano de lavado por 1 a 3unidades; b) eventualmente, al menos un compuesto de la fórmula (II): A((CR1R2)mSO3M)p.q, donde A, R1, R2, R3, R4, M, p y q tienen losmismossignificados genera les indicados para la fórmula (I); (c) y eventualmente otros aditivos. |
