发明名称 |
Dispositivo de rampa de apoio e material de absorção de impactos para redução de impactos no elemento fotorreceptor por um dispositivo de limpeza escamoteável. |
摘要 |
Patente de Invenção: <B>"DISPOSITIVO DE RAMPA DE APOIO E MATERIAL DE ABSORçãO DE IMPACTOS PARA REDUçãO DE IMPACTOS NO ELEMENTO FOTORRECEPTOR POR UM DISPOSITIVO DE LIMPEZA ESCAMOTEáVEL"<D>. Trata-se de um aparelho, um método e uma máquina de impressão que utilizam um apoio em forma de rampa e/ou um material de absorção de impactos em um subsistema de limpeza para redução ou inibição de distúrbios de qualidade de movimento de elemento fotorreceptor. O material de absorção de impactos impede a ocorrência de uma força de alto impacto instantânea entre a roda espaçadora e a barra de apoio do elemento fotorreceptor que pode causar distúrbios de qualidade de movimento do elemento fotorreceptor. O apoio em forma de rampa impede a desaceleração instantânea da roda espaçadora com o apoio que causa distúrbios de qualidade de movimento devido ao sacudimento da correia fotorreceptora com o impacto de contato. A combinação do material de absorção de choques com o apoio em forma de rampa cria uma configuração preferida para inibir distúrbios de qualidade de movimento do elemento fotorreceptor causados pelo sistema de limpeza.
|
申请公布号 |
BR9803943(A) |
申请公布日期 |
1999.11.23 |
申请号 |
BR1998PI03943 |
申请日期 |
1998.09.21 |
申请人 |
XEROX CORPORATION |
发明人 |
ANTONY C FORNALIK;CHRISTOPHER B MILLER;RONALD E AUTY;NORMAN E. LATOUR;NICHOLAS M. SOURES;BRUCE E. THAYER |
分类号 |
G03G21/10;G03G21/00;(IPC1-7):G03G21/00 |
主分类号 |
G03G21/10 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|