| 主权项 |
1.一种用于光蚀版印刷中之水性抗反射涂料组合 物,其包含: a)一种包含至少一种其下式结构之染料单体的聚 合物, 其中,R1-R4为H,(C1-C4)烷基或(C1-C4)烷氧基, R5为OH,NH2,OCH3,或OCH2CH3, R6为H,(C1-C4)烷基或(C1-C4)烷氧基, R7为H,(C1-C4)烷基或(C1-C4)烷氧基,或硝基, R8为硝基,SONH2,COOY,SO3Y,其中,Y为H,硷金属,铝或烷基 铝, X为共轭基团,即,N=N,CZ=CZ,CZ=N,N=CZ,其中,Z为H,(C1-C4)烷 基或(C1-C4)烷氧基, m=1-3,而n=1-4; b)至少一种具下列结构之单体 其中,R1到R3为H,(C1-C4)烷基或(C1-C4)烷氧基,而Y系包 含交联官能基基团;以及 c)至少一种衍生自亲水性乙烯单体或者可成为亲 水性的乙烯单体之单体。2.根据申请专利范围第1 项之水性抗反射涂料组合物,其中该亲水性乙烯单 体具有下列结构: 其中,R1-R3为H,(C1-C4)烷基或烷氧基,而W系为亲水性 基团。3.根据申请专利范围第2项之水性抗反射涂 料组合物,其中该亲水性基团系选自由:O(CH2)2-O-(CH2 )-OH,O(CH2)2-OH,(CH2)n-OH(其中n=1-4),COO(C1-C4)烷基,COOX,SO3 X(其中X为H,硷金属,铝或烷基铝),以及CONHCH2OH所组 成之群。4.根据申请专利范围第1项之水性抗反射 涂料组合物,其中该亲水性基团系选自由:顺丁烯 二酸酐,反丁烯二酸酐,乙烯啶,以及乙烯咯烷 酮所组成之群者。5.根据申请专利范围第1项之水 性抗反射涂料组合物,其中该交联基团系选自由羧 基二醯亚胺,异氰酸酯,嵌段异氰酸酯,缩水甘油丙 烯酸甲酯,烷基醇丙烯基醯胺,烷基醇甲基丙烯醯 胺,以及甲基丙烯胺基乙二醇酯所组成之群。6.根 据申请专利范围第1项之水性抗反射涂料组合物, 其中该染料单元中之X系为偶氮基团。7.根据申请 专利范围第1项之水性抗反射涂料组合物,其中该 聚合物进一步包含一种水不互混之醇类或者乙酸 酯。8.根据申请专利范围第1项之水性抗反射涂料 组合物,其中该染料单体莫耳%之范围系占聚合物 莫耳%之5至95%,交联单体莫耳%之范围系占聚合物莫 耳%之自1至50%,而该亲水性乙烯单体莫耳%之范围系 占聚合物莫耳%之自1至50%。9.根据申请专利范围第 1项之水性抗反射涂料组合物,其进一步包含一或 多种非吸收性、非交联性、及非亲水性之乙烯单 体。10.根据申请专利范围第1项之水性抗反射涂料 组合物,其进一步包含一种交联剂。11.根据申请专 利范围第1项之水性抗反射涂料组合物,其进一步 包含一种染料。12.根据申请专利范围第1项之水性 抗反射涂料组合物,其中该聚合物系具有一范围介 于自2,500至1,000,000间之重量平均分子量。13.根据 申请专利范围第1项之水性抗反射涂料组合物,其 中各金属离子之含量系分别少于50ppb。14.一种于 基材上形成显像之方法,其包含以下步骤: a)于基材上涂覆根据申请专利范围第1项之水性抗 反射涂料组合物, b)将该水性抗反射涂料组合物予以加热, c)于基材上涂覆一层光阻剂溶液涂层, d)将该光阻剂涂层予以加热,以实质移除涂层中之 溶剂, e)将光阻剂涂层予以全影像曝光, f)使用一水性硷性显像液以将影像显影, g)视需要地,于显影步骤之前或者之后,将基材加热 之, h)将该抗反射涂层进行乾蚀刻。15.根据申请专利 范围第14项之方法,其中该光阻剂溶液包含一种酚 醛清漆树脂,一种光敏性化合物,以及一种溶剂。16 .根据申请专利范围第14项之方法,其中该光阻剂溶 液包含一种经取代之聚羟苯乙烯,一种光敏性化合 物,以及一种溶剂。17.根据申请专利范围第14项之 方法,其中该光阻剂溶液包含聚羟苯乙烯,一种光 敏性化合物,一种溶解度抑制剂,以及一种溶剂18. 根据申请专利范围第14项之方法,其中该水性抗反 射涂料之加热温度范围系自70℃至250℃之间。19. 根据申请专利范围第14项之方法,其中该显像液系 为一种不含金属离子之硷性氢氧化物之水溶液。 |
