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发明名称 VERFAHREN ZUM PLANARISIEREN EINER HALBLEITERSUBSTRATSOBERFLÄCHE
摘要
申请公布号 AT186155(T) 申请公布日期 1999.11.15
申请号 AT19920110128T 申请日期 1992.06.16
申请人 SEMICONDUCTOR PROCESS LABORATORY CO., LTD.;ALCAN- TECH CO., INC.;CANON SALES CO., INC. 发明人 MAEDA, KAZUO;MATSUI, BUNYA;NISHIMOTO, YUKO
分类号 H01L21/3105;H01L21/316;H01L21/3205;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/768;H01L21/310;H01L23/485 主分类号 H01L21/3105
代理机构 代理人
主权项
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