| 发明名称 |
METHOD OF FORMING A CONTACT HOLE IN A SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
KR100230353(B1) |
申请公布日期 |
1999.11.15 |
| 申请号 |
KR19920020682 |
申请日期 |
1992.11.05 |
| 申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO, LTD. |
发明人 |
SHIN, HEON-JONG |
| 分类号 |
H01L21/70;(IPC1-7):H01L21/70 |
主分类号 |
H01L21/70 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
